“厚度”定義了兩元件之間Z方向的位移量，設(shè)置一個(gè)表面的厚度公差不僅僅會(huì)影響到所設(shè)置的表面，也會(huì)影響到系統(tǒng)的其他表面。我們需要了解組裝過程是如何影響厚度公差的。

當(dāng)?shù)?一個(gè)透鏡的背面承靠在機(jī)械結(jié)構(gòu)上，公差分析增加厚度意味著透鏡會(huì)“往回增長(zhǎng)”，并且光學(xué)系統(tǒng)的長(zhǎng)度會(huì)增加。

TTHI（厚度公差）允許我們指1定一個(gè)“調(diào)節(jié)面”來修正厚度變化。例如，如果透鏡的前表面被承靠在機(jī)械結(jié)構(gòu)上，并且它的厚度在公差分析時(shí)額外增加了，這時(shí)透鏡將會(huì)往200mm的空氣間隔方向上稍微突出一點(diǎn)，因此實(shí)際的空氣間隔會(huì)小于200mm。Zemax OpticStudio 可以通過“Adjust” 參數(shù)實(shí)現(xiàn)這一功能。

Zemax OpticStudio使用頂點(diǎn)的曲率半徑、非球面系數(shù)和網(wǎng)格點(diǎn)數(shù)據(jù)來計(jì)算網(wǎng)格矢高面的近軸光焦度。

網(wǎng)格的尺寸只受限于可用內(nèi)存的大小。每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)需要4個(gè)8比特的雙精度數(shù)據(jù)和1個(gè)1比特值的存儲(chǔ)空間。一個(gè)255x255點(diǎn)陣的網(wǎng)格文件大約需要2Mb的內(nèi)存。

雙三次樣條插值算法平滑至三階導(dǎo)，它得到的結(jié)果在格點(diǎn)上有精1確值且不需要很大的網(wǎng)格文件就能得到很平滑的表面面型，但不能準(zhǔn)確地模擬更高階的非球面。

網(wǎng)格矢高表面沒有定義網(wǎng)格邊界之外的部分時(shí)，光線追跡到網(wǎng)格表面之外將被視為光線丟失錯(cuò)誤。在定義表面時(shí)，將表面區(qū)域定義為比光線照射部分尺寸更大的面可以有效避免這一錯(cuò)誤。特別是不要將網(wǎng)格大小定義為與與光線照射區(qū)域相同的尺寸，否則光線追跡到網(wǎng)格表面邊緣時(shí)有可能不會(huì)再繼續(xù)追跡。

當(dāng)使用網(wǎng)格矢高表面模擬表面極度彎曲的光學(xué)器件時(shí)，用戶最1好將基礎(chǔ)面定義為相近的面型，再在此基礎(chǔ)上定義相對(duì)矢高，而不是直接用網(wǎng)格矢高面定義整個(gè)面型。

目前而言，Zemax OpticStudio無法直接對(duì)網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行優(yōu)化或公差分析。

光柵作為一類特殊的分光器件，已經(jīng)普遍用在光譜儀、單色儀、高光譜、光通訊等應(yīng)用領(lǐng)域上，近年來隨著AR/VR行業(yè)的興起，也廣泛用于AR眼鏡中，作為光耦合器件。光柵模塊參數(shù)說明（序列模式）：1.Radius:光柵基底面曲率半徑，基底面可以是平面，球面或者圓錐曲面。

2.Thickness:光柵基底面厚度。

3.Material:光柵材料。

4.Conic:光柵基底面圓錐系數(shù)，如1的描述。

5.TCE：光柵材料熱膨脹系數(shù)。

6.Mode number:后續(xù)擴(kuò)展用。

7.Threshold:衍射效率閾值，如果光線的衍射效率低于該閾值，將從2D,3D視圖，Shadeds視圖及其他分析圖如點(diǎn)列圖中慮除掉，便于直觀的對(duì)主要衍射進(jìn)行分析，去除干擾。

8.Vector Rotation:光柵刻線取向旋轉(zhuǎn)，類似于tilt about z.默認(rèn)0時(shí)光柵刻線沿著x軸。

9.Order:衍射級(jí)次，可以指1定任何整數(shù)階衍射級(jí)次。

10.Lines/um:光柵刻線密度。

11.Structure Profile(Mode):光柵類型選擇