再次執(zhí)行POP后，可以看到面3的網(wǎng)格寬度如同預期是30mm，將面9上的光束放大后可以看到中心遮擋區(qū)域的解析度有了很大的提升，像素造成的鋸齒邊緣缺陷也有了明顯的改善

在做了前面兩個改動之后，可以看出直到面13（第二篇透鏡的后表面）為止，取樣率都是沒問題的。但是在像表面上的取樣率還是比較差。

由于光束從第二個透鏡后表面往后經(jīng)過很長一段光程聚焦成一個點，因此在像面上的解析度會跟第二個透鏡的后表面上的網(wǎng)格寬度成反比，則增加第二個透鏡后表面上的網(wǎng)格寬度就可以解決像面上的取樣問題。

我們可以設(shè)置更多的分析光線以在探測器中得到更符合實際的結(jié)果。將分析光線設(shè)置為一百萬根， 此時我們可以更清晰的看到光源模型的空間分布和角分布數(shù)據(jù)：

可以看到所計算的流明強度分布和供應商提供的數(shù)據(jù)基本相符。但是供應商并沒有提供LED的強度數(shù)據(jù)（以及LED的空間結(jié)構(gòu)）， 因此OpticStudio假設(shè)光源在3mm的半徑內(nèi)是均勻分布的。在沒有更多可用數(shù)據(jù)的情況下， 這些就是我們所能做的所有設(shè)置了。如果想進一步提高模擬的精度，我們需要空間分布數(shù)據(jù)和角分布數(shù)據(jù)，這分別對應了光源強度和光源照度。

通過與原始RSMX文件中的測量圖像對比可以發(fā)現(xiàn)，兩者具有很高的一致性。使用Opsira軟件Opsira  公司在他們的Luca Raymaker軟件中提供了相似的功能，它可以根據(jù)角度計測量的數(shù)據(jù)生成光束。 光線根據(jù)以下設(shè)置生成：

OpticStudio會讀取所生成的二進制 .dat文件并加載至文件光源物體，然后采用與前文所述輻射光源相同的方法進行光線追跡。建立復雜的幾何模型我們討論的最后一個技巧是建立包含復雜幾何體的光源模型。這是光源的“迷你模型”， 并且使用OpticStudio中提供的幾何體表示光源的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。例如，我們可以打開Zemax根目錄 /Samples/non-sequential/sources/led_model.zmx：