左邊的波前圖TAN = 0°。右邊波前圖中，通過(guò)設(shè)置TAN=45°，子午/弧矢方向被旋轉(zhuǎn)45°。在基于光瞳坐標(biāo)的分析中，改變子午角可以提供更多信息，例如光程差和光扇圖。

需要特別指出的是，子午面和弧矢面的旋轉(zhuǎn)是在光瞳坐標(biāo)系下發(fā)生的旋轉(zhuǎn)，而不是物空間或像空間。理解上面的區(qū)別是非常重要的，有利于理解下文子午角對(duì)調(diào)制傳遞函數(shù)的影響。

“厚度”定義了兩元件之間Z方向的位移量，設(shè)置一個(gè)表面的厚度公差不僅僅會(huì)影響到所設(shè)置的表面，也會(huì)影響到系統(tǒng)的其他表面。我們需要了解組裝過(guò)程是如何影響厚度公差的。

當(dāng)?shù)?一個(gè)透鏡的背面承靠在機(jī)械結(jié)構(gòu)上，公差分析增加厚度意味著透鏡會(huì)“往回增長(zhǎng)”，并且光學(xué)系統(tǒng)的長(zhǎng)度會(huì)增加。

TTHI（厚度公差）允許我們指1定一個(gè)“調(diào)節(jié)面”來(lái)修正厚度變化。例如，如果透鏡的前表面被承靠在機(jī)械結(jié)構(gòu)上，并且它的厚度在公差分析時(shí)額外增加了，這時(shí)透鏡將會(huì)往200mm的空氣間隔方向上稍微突出一點(diǎn)，因此實(shí)際的空氣間隔會(huì)小于200mm。Zemax OpticStudio 可以通過(guò)“Adjust” 參數(shù)實(shí)現(xiàn)這一功能。

Zemax OpticStudio使用頂點(diǎn)的曲率半徑、非球面系數(shù)和網(wǎng)格點(diǎn)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算網(wǎng)格矢高面的近軸光焦度。

網(wǎng)格的尺寸只受限于可用內(nèi)存的大小。每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)需要4個(gè)8比特的雙精度數(shù)據(jù)和1個(gè)1比特值的存儲(chǔ)空間。一個(gè)255x255點(diǎn)陣的網(wǎng)格文件大約需要2Mb的內(nèi)存。

雙三次樣條插值算法平滑至三階導(dǎo)，它得到的結(jié)果在格點(diǎn)上有精1確值且不需要很大的網(wǎng)格文件就能得到很平滑的表面面型，但不能準(zhǔn)確地模擬更高階的非球面。

網(wǎng)格矢高表面沒(méi)有定義網(wǎng)格邊界之外的部分時(shí)，光線追跡到網(wǎng)格表面之外將被視為光線丟失錯(cuò)誤。在定義表面時(shí)，將表面區(qū)域定義為比光線照射部分尺寸更大的面可以有效避免這一錯(cuò)誤。特別是不要將網(wǎng)格大小定義為與與光線照射區(qū)域相同的尺寸，否則光線追跡到網(wǎng)格表面邊緣時(shí)有可能不會(huì)再繼續(xù)追跡。

當(dāng)使用網(wǎng)格矢高表面模擬表面極度彎曲的光學(xué)器件時(shí)，用戶最1好將基礎(chǔ)面定義為相近的面型，再在此基礎(chǔ)上定義相對(duì)矢高，而不是直接用網(wǎng)格矢高面定義整個(gè)面型。

目前而言，Zemax OpticStudio無(wú)法直接對(duì)網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行優(yōu)化或公差分析。