國(guó)產(chǎn)等離子干法去膠機(jī)-硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體去膠機(jī)
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品牌 國(guó)產(chǎn)
產(chǎn)地 上海
功能 干法去膠
適合尺寸 4、、6、8、12寸
頻率 13.56MHZ
商品介紹

  • 國(guó)產(chǎn)等離子干法去膠機(jī)-硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體去膠機(jī)


    應(yīng)用領(lǐng)域

    6 ”到8 ”硅基半導(dǎo)體生產(chǎn)線

    刻蝕后光刻膠灰化；

    殘膠去除

    高劑量離子注入后光刻膠去除

    3 ”到6 ”碳化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦等化合物半導(dǎo)體生產(chǎn)線光刻膠灰化

    殘膠去除；

    高劑量離子注入后光刻膠去除

    圖形下光刻膠釋放

    8 ”到12”晶圓級(jí)封裝生產(chǎn)產(chǎn)線光刻膠殘膠去除

    有機(jī)物去除

    晶圓表面處理

  • 運(yùn)作特點(diǎn)

    兼容晶圓尺寸為：4 ” /6 ” /8”或8 ” /12 ” ；

    支持2 個(gè)開放式晶圓匣或SMIF

    3 軸機(jī)械手；

    2種可選等離子體源:

    RPS (400KHz Toroidal遠(yuǎn)程等離子體源 )

    電感耦合等離子體源 (13.56MHz)

    高密度等離子體，去膠速率快

    均勻性和重復(fù)性高

    占地面積小

    耗材成本（COC）和使用成本（COO)低

    人性化的人機(jī)交互操作系統(tǒng)

    工業(yè)計(jì)算機(jī)Windows


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聯(lián)系賣家 婁先生 （QQ：1029292366）
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