丹頓Denton電子束蒸發(fā)設備Explorer-Integrity系列
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Explorer薄膜沉積解決方案
電子束、磁控濺射和熱蒸發(fā)
Explorer是多功能的高真空研發(fā)和中試生產平臺,其配置可為電子束(e-beam) 蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)或磁控濺射。所有三種配置中均可選配離子輔助沉積功能。Explorer可在半手動模式下使用,也可升級到全自動模式,一鍵自動化操作,可以減少系統(tǒng)停機時間。
用途
- 光學鍍膜表征和設計
- 半導體器件開發(fā)
- CIGS 和高級材料研究
- 高端電子顯微鏡樣品制備
- 質量保證
- 故障分析
優(yōu)勢
Explorer憑借靈活的腔室尺寸可以容納8英寸大的基片。濺射配置適合直流、脈沖直流和射頻濺射,并具備共聚焦濺射能力??梢赃x擇PEM技術,該技術是針對金屬氧化物和氮化物過渡模式下高速反應濺射的閉環(huán)控制系統(tǒng)。
我們提供多種抽真空配置—擴散泵、冷泵和渦輪泵—泵可安裝在設備后部或底部來滿足工藝需求,并提供快速抽氣能力滿足高產能需求。
Integrity薄膜沉積解決方案
電子束和熱蒸發(fā)
對于大批量生產,Integrity系統(tǒng)是正確的選擇。該系統(tǒng)配置用于高要求的光學鍍膜、半導體和化合物半導體應用。該解決方案提供高產量、應力控制、高沉積速率、PID控制、最佳粒度和薄膜結晶學。丹頓公司提供預先配置的特定應用工具,可以滿足苛刻的過程要求。
用途
- 激光腔面鍍膜和其他激光應用
- 高/低和窄帶通濾波器
- 天文和軍事光學器件
- 銦沉積用于焦平面陣列組件
- GaAs和LED器件的金和相關鍍膜
- 半導體接地面鍍膜
- 活動CIGS層
- 醫(yī)療組件
優(yōu)勢
Integrity的溫度管理系統(tǒng)采用液體冷卻基片臺用于鍍制細晶粒和紋理薄膜,以及具有較低熔點的材料沉積,例如,銦。您還可以對沉積束流進行準直控制,可以消除邊緣效應,優(yōu)化產量,并使您能夠完全控制入射角,從而減少剝離問題。
為了更多的工藝靈活性,離子源可以集成用于離子輔助沉積或預清潔。多種腔室尺寸、固定選項和泵組件可滿足您的生產要求。
特定應用的配置
- 激光腔面鍍膜機
- 銦柱沉積