螣芯科技
主營(yíng)產(chǎn)品: 半導(dǎo)體前道, 后道, 檢測(cè)設(shè)備
丹頓Denton電子束蒸發(fā)設(shè)備Explorer-Integrity系列
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螣芯科技
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婁先生 銷售總監(jiān)
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經(jīng)營(yíng)模式
其他
所在地區(qū)
上海市青浦區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
Explorer薄膜沉積解決方案
電子束、磁控濺射和熱蒸發(fā)
Explorer是多功能的高真空研發(fā)和中試生產(chǎn)平臺(tái),其配置可為電子束(e-beam) 蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)或磁控濺射。所有三種配置中均可選配離子輔助沉積功能。Explorer可在半手動(dòng)模式下使用,也可升級(jí)到全自動(dòng)模式,一鍵自動(dòng)化操作,可以減少系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。
用途
- 光學(xué)鍍膜表征和設(shè)計(jì)
- 半導(dǎo)體器件開發(fā)
- CIGS 和高級(jí)材料研究
- 高端電子顯微鏡樣品制備
- 質(zhì)量保證
- 故障分析
優(yōu)勢(shì)
Explorer憑借靈活的腔室尺寸可以容納8英寸大的基片。濺射配置適合直流、脈沖直流和射頻濺射,并具備共聚焦濺射能力??梢赃x擇PEM技術(shù),該技術(shù)是針對(duì)金屬氧化物和氮化物過渡模式下高速反應(yīng)濺射的閉環(huán)控制系統(tǒng)。
我們提供多種抽真空配置—擴(kuò)散泵、冷泵和渦輪泵—泵可安裝在設(shè)備后部或底部來滿足工藝需求,并提供快速抽氣能力滿足高產(chǎn)能需求。
Integrity薄膜沉積解決方案
電子束和熱蒸發(fā)
對(duì)于大批量生產(chǎn),Integrity系統(tǒng)是正確的選擇。該系統(tǒng)配置用于高要求的光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體應(yīng)用。該解決方案提供高產(chǎn)量、應(yīng)力控制、高沉積速率、PID控制、最佳粒度和薄膜結(jié)晶學(xué)。丹頓公司提供預(yù)先配置的特定應(yīng)用工具,可以滿足苛刻的過程要求。
用途
- 激光腔面鍍膜和其他激光應(yīng)用
- 高/低和窄帶通濾波器
- 天文和軍事光學(xué)器件
- 銦沉積用于焦平面陣列組件
- GaAs和LED器件的金和相關(guān)鍍膜
- 半導(dǎo)體接地面鍍膜
- 活動(dòng)CIGS層
- 醫(yī)療組件
優(yōu)勢(shì)
Integrity的溫度管理系統(tǒng)采用液體冷卻基片臺(tái)用于鍍制細(xì)晶粒和紋理薄膜,以及具有較低熔點(diǎn)的材料沉積,例如,銦。您還可以對(duì)沉積束流進(jìn)行準(zhǔn)直控制,可以消除邊緣效應(yīng),優(yōu)化產(chǎn)量,并使您能夠完全控制入射角,從而減少剝離問題。
為了更多的工藝靈活性,離子源可以集成用于離子輔助沉積或預(yù)清潔。多種腔室尺寸、固定選項(xiàng)和泵組件可滿足您的生產(chǎn)要求。
特定應(yīng)用的配置
- 激光腔面鍍膜機(jī)
- 銦柱沉積