螣芯科技
主營(yíng)產(chǎn)品: 半導(dǎo)體前道, 后道, 檢測(cè)設(shè)備
丹頓Denton磁控濺射設(shè)備Discovery-Desktop-Pro-Explorer系列
價(jià)格
訂貨量(臺(tái))
面議
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
钳钶钳钹钹钴钵钸钷钻钹
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螣芯科技
店齡4年 企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
婁先生 銷售總監(jiān)
聯(lián)系電話
钳钶钳钹钹钴钵钸钷钻钹
經(jīng)營(yíng)模式
其他
所在地區(qū)
上海市青浦區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
Discovery磁控濺射系統(tǒng)具有多功能性和大批量生產(chǎn)能力。該系統(tǒng)可容納6個(gè)陰極,可通過半徑、距離和角度呈現(xiàn)的三軸調(diào)節(jié)來均勻鍍膜。每個(gè)陰極可以針對(duì)不同的沉積方法或靶材進(jìn)行優(yōu)化。
Discovery系統(tǒng)可以提供半手動(dòng)模式,或者可以升級(jí)到全自動(dòng)模式,一鍵自動(dòng)化操作,可以減少系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。其在多腔室配置中也可以滿足特定的流程需求。
用途
- 高級(jí)濾光器
- 用于醫(yī)用植入物的生物相容鍍膜
- 鍍膜電阻器和傳感器
- 晶片金屬和介電膜
- 大面積混合電路制造
- 化合物半導(dǎo)體的金屬觸點(diǎn)
- 研究與開發(fā)
優(yōu)勢(shì)
經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的Discovery平臺(tái)最大可以處理300mm的基片。其提供多腔室配置,可用于氧敏感應(yīng)用和確保高產(chǎn)量。濺射配置適合直流、脈沖直流和射頻濺射,并具備共聚焦濺射能力。該系統(tǒng)可以配置丹頓公司專有的彩色控制系統(tǒng)。
選項(xiàng)包括離子輔助沉積,以及丹頓公司專有的PEM技術(shù),用于閉環(huán)控制過渡模式、金屬氧化物和氮化物的高速反應(yīng)濺射技術(shù)。借助獨(dú)立的電控氣動(dòng)源擋板和煙道組件,可以防止源材料的交叉污染。多種泵配置,包括擴(kuò)散泵、低溫泵和渦輪泵,以及泵放置選項(xiàng),提供設(shè)計(jì)靈活性,以滿足您的工藝和生產(chǎn)率要求。
Desktop Pro薄膜沉積解決方案
如果實(shí)驗(yàn)室空間是您關(guān)心的問題,緊湊、高真空Desktop Pro濺射系統(tǒng)生產(chǎn)能力大,而占用的桌面空間不到36英寸(914mm)。Desktop Pro可以提供共聚焦濺射以及磁性和/或介電材料的沉積。
Desktop Pro以共焦結(jié)構(gòu)支持一個(gè)或兩個(gè)陰極,在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時(shí)間內(nèi)抽氣至高真空(10-6托范圍),這是需要快速轉(zhuǎn)換的多用戶環(huán)境中完美解決方案。
用途
- 濺射
- 材料研究
- 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證
- 半導(dǎo)體故障分析
- 納米技術(shù)
- 化合物半導(dǎo)體
優(yōu)勢(shì)
這一直流和射頻濺射系統(tǒng)將提高您的研究生產(chǎn)力,提供一致、可重復(fù)的性能,同時(shí),可大幅節(jié)約測(cè)試環(huán)境的空間。