如上，在LDE中輸入系統(tǒng)初始結構。勾選“Adjust Index Data To Environment”選項。

除了以上方法，我們還可以我們還可以利用Zemax OpticStudio內建的工具自動插入所有所需參數(shù)操作數(shù)。打開MCE，點擊菜單欄上的Make Thermal工具即可。

除了標準溫度（組態(tài)1），我們還需要再插入兩個組態(tài)，分別為-20℃和40℃。因此在模擬過程中一共有三個組態(tài)。具體設定如下圖。

同時按下(Ctrl+A)可以切換組態(tài)，觀察系統(tǒng)熱效應。

注意原始設計（nominal）的公差評價標準為0.0022即1/400。我們要求在批量生產(chǎn)時有1/20或者0.05波長，而系統(tǒng)中一部分公差本身就超過了這一標準，例如增加了補償之后，單單第二片透鏡的折射率公差就使得波前差降到了0.058 波長。在所有公差單獨計算后，Zemax OpticStudio 會計算各種不同的統(tǒng)計資料。其中最1重要的就是 "Estimated Change" 以及 “Estimated Performance” （本文中為Estimated RMS Wavefront）。Zemax OpticStudio使用RSS（Root Sum Square）的計算方法計算Estimated Change。對于每一個公差操作數(shù)，相對于原始設計的評價標準變量的計算方法是最1大與最1小公差的評價標準的改變各自平方后再取平均值。最1大與最1小取平均是因為它們不會同時發(fā)生，如果相加會導致過分悲觀的預測。至此，我們計算出了一個最終成品值的預測。

雙三次樣條曲線插值算法br

與線性插值算法的比較

表面上任意點的矢高擬合可以用兩種方法中的任意一種進行計算。雙三次樣條算法是默認算法，它同時對矢高及其一階導進行插值計算并提供了更加平滑的結果。為獲得合理平滑數(shù)據(jù)，首1選雙三次樣條算法。但對于偽隨機形式的數(shù)據(jù)或波動較大的數(shù)據(jù)，雙三次樣條算法可能會得到非常極端的結果，這就意味著面數(shù)據(jù)的插值可能生成遠離網(wǎng)格點的矢高值。對于這種情況，線性插值算法則會的到更加合理的結果。雙三次樣條或線性插值的選擇作為一個參數(shù)可由用戶選擇。