我們應(yīng)該設(shè)置怎樣的采樣頻率來對透鏡引入的相位進行合適的取樣呢？

我們可以通過Zemax OpticStudio中的評價函數(shù)編輯器（Merit Function）或者宏語言(ZPL Macro)來計算合理的采樣率。評價函數(shù)如圖8所示。

函數(shù)編輯邏輯如下：

?計算光束邊緣相距很短的兩條光線的光程差。（因為邊緣的相位變化最劇烈）。

?計算對這兩條光線的相位變化以及所需要的像素個數(shù)。

?將這一數(shù)值乘以全孔徑直徑以得到整個孔徑所需要的像素個數(shù)。

假設(shè)該系統(tǒng)是一個相機鏡頭系統(tǒng)，其中光闌的半徑設(shè)定為10個鏡頭單位。

此時的系統(tǒng)孔徑（System Aperture）需要定為“float by sto1p size”。這樣光闌半徑可以直接在鏡頭編輯其中手動設(shè)定。

此時沒有使用光線瞄準(zhǔn)。從物面出發(fā)的光線是指向入瞳的，但是入瞳的大小以及位置在近軸計算下只參考物面以及光闌中間的光學(xué)元件的光學(xué)倍率（Optical Power），并沒有考慮像差。

打開并放大Layout圖，可以看到光闌的邊緣光線（Marginal Ray）并沒有精1確地落在光闌的邊緣。同時打開光瞳像差光扇圖，從圖中也可以看出沒有使用光線瞄準(zhǔn)時最1大光瞳像差為3%，這表明光線瞄準(zhǔn)并不是必須的。用戶需要在增加的光線跟蹤精度與計算時間之間折中考慮。一般來說，光線瞄準(zhǔn)會使光線追跡速度降低2到8倍。

它們可以用來表示LED的芯片、電極線、封裝點等?？梢栽诓煌矬w的表面上添加詳細的光學(xué)屬性，然后進行大量的光線追跡。 該光源模型可以直接進行光線追跡，或者將光源產(chǎn)生的光線保存在光線數(shù)據(jù)庫中。在分析選項卡 -> 光線數(shù)據(jù)庫查看器 (Ray Database Viewer) 中，您可以選擇一個測試物體，并將所有入射到該物體的光線保存為一個 新的光源文件。