氟化氪光刻機廢水除氟的核心技術(shù)?在于利用特定的處理工藝去除廢水中的氟離子。這一技術(shù)主要應用于半導體制造領域，特別是在光刻機的清洗過程中產(chǎn)生的廢水中。通過有效的除氟處理，可以減少對環(huán)境的污染，同時符合環(huán)保要求?。

?氟化氪光刻機的工作原理?基于深紫外(DUV)光刻技術(shù)，使用248納米的光源波長，分辨率小于等于110納米，套刻精度精確至25納米以內(nèi)。這種技術(shù)水平的提升反映了我國在精密制造與光學工程領域的深厚積累?34。

?除氟技術(shù)的具體應用?包括使用特定的化學或物理方法，如沉淀法、離子交換、電滲析等，來去除廢水中的氟離子。這些方法可以有效降低廢水中的氟含量，達到排放標準。此外，結(jié)合多重曝光技術(shù)，國產(chǎn)光刻機的技術(shù)已經(jīng)成熟，從DUV光刻機到EUV光刻機，標志著我國在高端光刻機領域取得了重大技術(shù)突破?12。

?環(huán)保意義及產(chǎn)業(yè)影響?方面，有效的廢水處理不僅符合環(huán)保要求，減少對環(huán)境的污染，同時也推動了半導體產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。隨著國產(chǎn)光刻機技術(shù)的不斷成熟與應用拓展，中國半導體產(chǎn)業(yè)在全球科技舞臺上的地位將進一步提升?。

Tulsimer? CH-87 UP 是在 Tulsimer? CH-87 的基礎上進行混合升級的一款專用除氟

樹 脂。能更好的適應高鹽、高氟環(huán)境下的選擇性除氟。且針對氨基磷酸型樹脂長時間

在高 鈣鎂環(huán)境下工作可能板結(jié)的問題，以及出水可能渾濁的問題進行了有效升級。

Tulsimer? CH-87 UP 的去除氟離子的能力可以達到 1ppm 以下的水平。它可以在寬泛的

PH 條件下工作，有極高的工作效率，并且很容易用氯化鋁進行再生?？梢詮V泛的應用于

光伏行業(yè)，氟化工行業(yè)等。

優(yōu)勢

1、處理精度，處理后廢水氟化物含量可達到1ppm以下，穩(wěn)定達標《地表水環(huán)境質(zhì)量標準》GB3838-2002，表三標準；2、吸附量大，對于氟化物實際操作交換量能夠達到6-8g/l；3、選擇性除氟，樹脂可以在鹽環(huán)境運行，并且只吸附氟，不受硫根等陰離子的影響；4、專門開發(fā)用于污水除氟的特種離子交換樹脂，解決了活性氧化鋁、羥基磷灰石等吸附材料用于污水除氟時，使用過程中出現(xiàn)的吸附量小、再生時間長（至少8小時），再生后交換量衰減嚴重、運行成本、濾料體量大、占地面積大等難題；5、能對低濃度含氟廢水進行深度處理，濃縮比，解決低濃度廢水處理難題；6、模塊組件形式，自動化程度，操作簡單。