概述:本機是根據適應晶片生產企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備，雙槽式設計，外殼采用PP材料。

主要特點：帶有上下左右抖動給功能，能有效充分的腐蝕晶片。

          腐蝕槽采用進口PP板

          自動補液，自動放液，減少人為操作。

          水沖洗槽采用循環(huán)水，自動溢流，節(jié)約水源。

          可采用全自動方式，也可采用手動控制方式。