主要構(gòu)成
     主要由對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

主要技術(shù)指標(biāo)：

1、曝光類型：?jiǎn)蚊?；配?"LED用曝光頭

2、曝光面積：110×110mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強(qiáng)度：0～30mw/cm2可調(diào)；

5、紫外光束角：≤3?0?8；

6、紫外光中心波長(zhǎng)：365nm；

7、紫外光源時(shí)間：≥2萬小時(shí)；

8、采用電子快門；

9、曝光分辨率：1μm

10、顯微鏡掃描范圍：X： ±15mm   Y：±15mm；

11、對(duì)準(zhǔn)范圍：X、Y 調(diào)節(jié) ±4mm；Q向調(diào)節(jié)±3°；

12、套刻精度：1μm；

13、分離量；0～50μm可調(diào)；

14、曝光方式：接觸式曝光，可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

15、找平方式：氣浮找平；

16、掩模版尺寸：≤127×127mm；

17、基片尺寸：≤Φ102mm(或者102×102mm)；

18、基片厚度：≤5 mm；

19、曝光定時(shí)：0～999.9秒可調(diào)；

聯(lián) 系  人：劉先生/康先生/左先生
移動(dòng)電話：139-0818-7709（劉總）
          177-1362-6490（康經(jīng)理）
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