無(wú)掩膜納米光刻機(jī) dmd式無(wú)掩膜光刻機(jī) 鑫南光 快速_優(yōu)質(zhì)_優(yōu)價(jià)
無(wú)掩膜納米光刻機(jī) dmd式無(wú)掩膜光刻機(jī) 鑫南光 快速_優(yōu)質(zhì)_優(yōu)價(jià)
無(wú)掩膜納米光刻機(jī) dmd式無(wú)掩膜光刻機(jī) 鑫南光 快速_優(yōu)質(zhì)_優(yōu)價(jià)
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無(wú)掩膜納米光刻機(jī)-dmd式無(wú)掩膜光刻機(jī)-鑫南光-快速-優(yōu)質(zhì)-優(yōu)價(jià)

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訂貨量(臺(tái))

¥248000.00

≥1

¥242000.00

≥3

聯(lián)系人 劉經(jīng)理

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發(fā)貨地 四川省成都市
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商品參數(shù)
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商品介紹
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品牌 鑫南光
售后服務(wù) 24小時(shí)服務(wù)
發(fā)貨產(chǎn)地 成都
是否跨境貨源
加工定制
可售賣(mài)地 全國(guó)
用途 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
類(lèi)型 光刻機(jī)
工作電壓 240V
別名 曝光機(jī)
曝光面積 Φ6",4",3"
曝光最小分辨率為 3μm
光強(qiáng) ≤10mw/cm2
片對(duì)版的預(yù)定位精度 ≤±0.1mm
商品介紹

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主要構(gòu)成
     主要由對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

主要技術(shù)指標(biāo):

1、曝光類(lèi)型:?jiǎn)蚊?;配?"LED用曝光頭

2、曝光面積:110×110mm;

3、曝光照度不均勻性:≤±3%;

4、曝光強(qiáng)度:0~30mw/cm2可調(diào);

5、紫外光束角:≤3?0?8;

6、紫外光中心波長(zhǎng):365nm;

7、紫外光源時(shí)間:≥2萬(wàn)小時(shí);

8、采用電子快門(mén);

9、曝光分辨率:1μm

 

10、顯微鏡掃描范圍:X: ±15mm   Y:±15mm;

 

11、對(duì)準(zhǔn)范圍:X、Y 調(diào)節(jié) ±4mm;Q向調(diào)節(jié)±3°;

 

12、套刻精度:1μm;

 

13、分離量;0~50μm可調(diào);

 

14、曝光方式:接觸式曝光,可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;

 

15、找平方式:氣浮找平;

 

16、掩模版尺寸:≤127×127mm;

 

17、基片尺寸:≤Φ102mm(或者102×102mm);

 

18、基片厚度:≤5 mm;

 

19、曝光定時(shí):0~999.9秒可調(diào);

 

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聯(lián) 系  人:劉先生/康先生/左先生
移動(dòng)電話:139-0818-7709(劉總)
          177-1362-6490(康經(jīng)理)

          135-5119-7043(左經(jīng)理)

電    話:86 28 85730519

傳    真:86 28 85730589

郵    編:610200

地    址:中國(guó) 四川 雙流縣 蛟龍工業(yè)港雙流園區(qū)渤海路3座

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聯(lián)系方式
公司名稱(chēng) 成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司
聯(lián)系賣(mài)家 劉經(jīng)理
手機(jī) 䀋䀐䀏䀍䀒䀋䀒䀓䀓䀍䀏
地址 四川省成都市