高純金屬材料介紹

高純金屬材料是指化學(xué)純度高、雜質(zhì)含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能的新材料，被認(rèn)為是現(xiàn)代高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)，是衡量一個(gè)國家或地區(qū)高新技術(shù)發(fā)展水平的重要指標(biāo)。由于高純材料具有優(yōu)異的物化性能，在半導(dǎo)體、光電學(xué)、電子信息、航天軍等領(lǐng)域應(yīng)用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純金屬靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務(wù)。

高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準(zhǔn)確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%