所謂“一般”的另一層意思是指標(biāo)牌字體的大小。用不干膠刻字做保護(hù)膜蝕刻金屬標(biāo)牌這種方法只能做較大字體的標(biāo)牌，因為現(xiàn)有的刻字機(jī)精度所限，中文字體小能刻1cm左右，字母和數(shù)字小能刻0.5cm左右，再小的話就會變形，顯得比較丑陋。因而這種方法做不了字體太小的金屬標(biāo)牌。那么，字體太小的話怎樣做呢？那就要用抗蝕保護(hù)油墨或感光抗蝕保護(hù)油墨來制作保護(hù)層了。

藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的國內(nèi)高新企業(yè)。產(chǎn)品范圍包括：金屬雕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),銘牌機(jī),腐蝕機(jī),蝕刻機(jī),標(biāo)牌設(shè)備,電鍍設(shè)備,電鑄機(jī),電刷鍍機(jī),鍍金機(jī),堆金機(jī),電泳設(shè)備,上色機(jī),版畫機(jī),打標(biāo)機(jī),拋光機(jī),鋁氧化著色設(shè)備,數(shù)碼標(biāo)牌設(shè)備,3D彩印打印機(jī),大型3D熱轉(zhuǎn)移機(jī)，立體玻雕機(jī)等，我公司致力于高質(zhì)量的產(chǎn)品和完善的技術(shù)服務(wù)活躍在各個領(lǐng)域。

含鹵素離子化合物的電解質(zhì)溶液都易于引發(fā)點(diǎn)蝕，但以C1一最甚，Br一次之，

I一對點(diǎn)蝕影響較小。

酸性環(huán)境中F一對鋁合金表面鈍化膜有很強(qiáng)的穿透性，同時這種穿透性很容易在表面迅速均勻展開。如條件控制得當(dāng)，這一特性對鋁合金的紋理蝕刻很有利。

②含氧化性金屬離子的氯化物電解質(zhì)溶液的影響。含氧化性金屬離子的氯化物(如CuCI:及FeC13等)電解質(zhì)溶液，對鋁合金表面點(diǎn)蝕有很大影響。而含非氧化性金屬子的氯化物(如NaCI, KCI等)電解質(zhì)溶液雖然對點(diǎn)蝕也有影響，但程度比前者要小得多。這是由于在進(jìn)行高價金屬離子還原為低價金屬離子的反應(yīng)時，氧化還原電位比點(diǎn)蝕電位高，因而加速了點(diǎn)蝕的形成。

一些氧化性陰離子和某些活性有機(jī)離子具有抑制點(diǎn)蝕的作用。對鋁合金點(diǎn)蝕的抑制次序是:NO歹>CrO丁>Ac->甲酸根>so獷。根據(jù)這一特征，在進(jìn)行紋理蝕刻時，蝕刻液中維持一定的NO歹濃度很有必要，NO矛能調(diào)節(jié)蝕刻液對鋁合金的蝕刻速度，從而控制蝕刻液溫度的穩(wěn)定，保證紋理蝕刻效果的一致性。

③溶液流速的影響。靜止的溶液不利于陽極區(qū)和陰極區(qū)之問的溶液交流，因而易于形成點(diǎn)蝕。相反，若增加流速則會減密蝕的形成。但對于鋁合金的紋理蝕刻需要的是分布均勻、密集的點(diǎn)蝕集合。靜止?fàn)顟B(tài)下只能是局部點(diǎn)蝕作用的增強(qiáng)，而并不利于密集點(diǎn)蝕集合的均勻分布，所以在進(jìn)行紋理蝕刻時被蝕刻鋁合金表面與電解質(zhì)溶液的相對移動很重要。

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滲人機(jī)理雖然在鋁合金表面極易形成氧化膜，但這層膜很薄(1tum甚至更薄)。要使氧化膜致密地覆蓋整個金屬表面，就需要有一定的厚度，而對于在鋁合金表面自然形成的氧化膜不能或很難做到這一點(diǎn)，在這層氧化膜上有許多的附著不致密處，這些微觀附著不致密處從理論上講滿布了整個金屬表面。對于一般環(huán)境，這層氧化膜具有相當(dāng)?shù)姆€(wěn)定性和耐蝕性。但在腐蝕性環(huán)境或腐蝕介質(zhì)中有鹵素離子存在時，特別是有穿透性強(qiáng)的C1一存在時，這層氧化膜就顯得特別脆弱。在氧化膜的附著不致密處，吸附有氧化性金屬離子的氯化物時，氧化性金屬離子和Cl-滲人到氧化膜層的晶格中，侵蝕氧化膜，使微觀不致密處迅速擴(kuò)大，進(jìn)而使C1一完全穿透氧化膜而進(jìn)人到膜內(nèi)層。同時與由它帶人的氧化性金屬離子共同作用于基體金屬表面，并在其他輔助離子參與下腐蝕金屬基體，在氧化膜附著不致密處優(yōu)先產(chǎn)生點(diǎn)蝕，進(jìn)而擴(kuò)散到整個金屬表面。