化合物濺射靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可以定制加工不同尺寸，不同純度的二元，三元，多元化合物濺射靶材

氧化物靶材Al2O3 MgO Fe2O3 Fe3O4 Ga2O3 Nb2O5 NiO TiO2 ZnO ZrO……

氮化物靶材AlN BN Si3N4 TaN TiN……

碳、硫化物靶材BC SiC WC MoS2 WS2 CdS ZnS Bi2S3 ……

二元化合物靶材ITO AZO TZO GZO IGZO Bi2Se3 Bi2Te3……

多元化合物靶材CIGS PZT BST LSMO……

以上產(chǎn)品純度，99.5-99.99%，可定制不同比例摻雜靶材，可提供圓靶，矩形靶。并且可提供靶材焊接綁定服務

高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應用于半導體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時，這些材料亦廣泛應用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

貴金屬產(chǎn)品說明

隨著電子，半導體科學的發(fā)展，貴（gui）金屬以其優(yōu)質(zhì)的性能，應用越來越廣泛。中諾新材可提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發(fā)材料，價格與國內(nèi)市場價格同步。并可對金鉑等貴（gui）金屬材料進行二次回收。中諾新材可提供的貴（gui）金屬材料有：高純金，高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產(chǎn)品純度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業(yè)。