PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應(yīng)用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中，樣品多種多樣，質(zhì)譜分布范圍很廣，因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個(gè)礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進(jìn)行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質(zhì)樣品中 常見(jiàn)的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來(lái)物質(zhì)的原始和進(jìn)化 水沉積物和地下水

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對(duì)材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測(cè)定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時(shí)應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗(yàn)證

ICP-MS的標(biāo)準(zhǔn)加入法
基體抑制是由基體帶來(lái)的物理干擾或化學(xué)干擾導(dǎo)致的。 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法時(shí)： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預(yù)制的分析樣品中；
2.然后對(duì)這些包含了標(biāo)準(zhǔn)加入物的樣品進(jìn)行再測(cè)定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實(shí)驗(yàn)空白(即未加標(biāo)樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標(biāo)準(zhǔn)加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標(biāo)準(zhǔn)加入法避免了配置標(biāo)準(zhǔn)曲線，相當(dāng)于進(jìn)行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標(biāo)樣完全一致，則相當(dāng)于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標(biāo)曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測(cè)定。
基體效應(yīng)以外的干擾并不能通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)加入法消除，但是可以通過(guò)空白扣減來(lái)消除，前提是 用來(lái)扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。

PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度：15℃～26℃，室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過(guò)3攝氏度，推薦室溫22℃；
2) 相對(duì)濕度：20～60%，無(wú)冷凝。濕度大的地區(qū)請(qǐng)配備除濕機(jī)；
3) Ar純度>99.996%，配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ?，引入儀器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa，氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min；如果選配了He碰撞氣，請(qǐng)準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè)，減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa，減壓閥后端接4mm管適配器，He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源：總供電三相五線(3相線，零線，地線)，額定電流40A以上；主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電，需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開(kāi)關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h，在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請(qǐng)注意，這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求)，建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥，以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無(wú)煙，無(wú)腐蝕性的環(huán)境下，無(wú)振動(dòng)，不受陽(yáng)光直射，遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品；
7) 接地良好（接地電阻≤4Ω）。