鋼研納克同時也是全球知名的標準物質提供商，都提供標樣，很多是以混標的形式包含了用戶要求濃度的多種元素，可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購買單標---10,000/1,000 ppm的單標母液。
但是，考慮到各個元素自身的物理化學特性，以及它們在酸中的穩(wěn)定性，或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性，在配置混標的過程中必須格外小心。
當配置自用的復合標準品時，應注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產生相互反應的元素否則可能產生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標樣或者樣品的過程中，請確認您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作，一 般超純水的電阻率應該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過程中使用的試劑例如酸試劑，也應該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的（例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP），盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標樣或者樣品的過程中，盡量減少稀釋步驟。
? 應當使用經過校準的微量移液器（例如移液），并且使用一次性塑料頭。
? 應當在通風櫥里面進行制備，以盡量避免空氣流通帶來的污染。
? 為了得到的檢出限，凡是在制備過程中會與標樣或者樣品接觸的容器和 器具都應當在使用前經過酸液浸泡。

非質譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質譜干擾主要包括： 1.質譜內沉積物：可以通過適當的清潔而降低。
2.樣品基體：這種干擾有時候可通過不同的樣品制備方法或適合的性能選項來降低，如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來校正這種類型的干擾，按照從易到難的順序排列在下面：
1. 如果檢出限允許的話，簡單的辦法是對樣品進行稀釋。
2. 使用內標校正
3. 使用標準加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進樣系統(tǒng))
5. 采用化學分離法將樣品中的基體進行分離去除 非質譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現形式：信號抑制、信號漂移。其中內標校正是使
用廣泛的用來校正物理干擾的技術手段。
在進行多樣品序列分析時，內標可以用來校正隨著時間推移而發(fā)生的信號漂移。實驗室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會引起信號的漂移。錐口鹽沉積也會引起 信號的漂移。
如果需要測量的元素覆蓋的質量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質量元素，也包含中 質量元素或輕質量元素)，使用多種內標進行校正。
在本章第三節(jié)(內標選擇)中已經詳細介紹過內標的使用原則，用戶可以進行參考。
標準加入法是另外一種廣泛使用的用來校正非質譜干擾的手段。當基體抑制效應無法通過 稀釋或基體剝離來去除的時候，可以用標準加入法來降低干擾。

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領域的應用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時應注意避免基體離 子干擾。
應用領域：
在研發(fā)和專業(yè)化學應用領域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學品
金屬和玻璃 產品純度驗證

PlasmaMS 300在環(huán)境領域的應用
在環(huán)境應用領域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來增長快的應用技術 手段。 該應用的關鍵是：根據相關法規(guī)，必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質中的一 系列元素進行檢測，并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環(huán)境行業(yè)應用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術近幾年在環(huán)境樣品分析中運用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯。
應用領域：
自來水檢測和水污染監(jiān)測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環(huán)境污染物中同位素識別和定量