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接觸式曝光指掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。接觸的越緊密，分辨率越高，當然接觸的越緊密，掩膜和材料的損傷就越大。 （1）軟接觸：把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面； （2）硬接觸：將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸； （3）真空接觸：在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）