光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。

直讀光譜儀在檢測(cè)分析過(guò)程中由于各種因素的影響產(chǎn)生誤差是在所難免的，比如標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品成分不均勻、組織狀況不一致、光譜性能不穩(wěn)定、樣品表面處理不好、氬氣純度不夠等一個(gè)因素出現(xiàn)問(wèn)題，就會(huì)影響到光電光譜分析誤差。了解其產(chǎn)生誤差的原因，采取有效的措施進(jìn)行消除或避免誤差，提高直讀光譜儀檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性，是一項(xiàng)十分重要的研究課題。

光譜儀在分析的過(guò)程中，電火花燃燒樣品表面會(huì)產(chǎn)生金屬粉塵，大部分的金屬粉塵都會(huì)隨著氬氣吹掃排到過(guò)濾罐中，然而也會(huì)有少部分金屬粉塵會(huì)停留在激發(fā)室里，時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)堆積污染激發(fā)室和光學(xué)透鏡，引起測(cè)量數(shù)據(jù)波動(dòng)，誤差變大，所以需要定期的清理來(lái)改善激發(fā)室環(huán)境，改善測(cè)量數(shù)據(jù)。
光譜儀在使用的過(guò)程中，會(huì)有一部分金屬粉塵、金屬屑、灰塵掉落到儀器內(nèi)部電路模塊上，如果不及時(shí)清理可能會(huì)導(dǎo)致電路模塊短路，一些核心的電路板損壞維修費(fèi)用會(huì)很高，所以需要及時(shí)的清理儀器內(nèi)部灰塵，保證電路的正常運(yùn)行。
儀器使用年限長(zhǎng)了后，儀器內(nèi)部一些器件會(huì)發(fā)生老化，這部分器件需要及時(shí)的發(fā)現(xiàn)更換，否則會(huì)引起嚴(yán)重的光譜儀故障。
化驗(yàn)員在使用過(guò)程中可能會(huì)存在一些不規(guī)范的操作，這些操作可能會(huì)導(dǎo)致測(cè)試誤差，嚴(yán)重的誤操作也可能會(huì)導(dǎo)致光譜儀故障，的方式是能和專業(yè)的光譜工程師溝通交流，讓工程師發(fā)現(xiàn)化驗(yàn)員的不規(guī)范操作，及時(shí)糾正，確保儀器的正常使用。

隨著使用時(shí)間的推移，光室、光學(xué)器件會(huì)發(fā)生非常微小的形變，就是這些微小的形變都會(huì)引起光路細(xì)微的漂移，從而導(dǎo)致儀器測(cè)試精度和準(zhǔn)確度的改變，而且這個(gè)漂移會(huì)隨著時(shí)間的延遲表現(xiàn)的越來(lái)越明顯，如果要再次提高儀器的性能就需要人為的調(diào)整參數(shù)來(lái)修正這部分漂移，從而改善光譜儀的性能。