鋼研納克:檢測行業(yè)國家隊，新材料國資改革核電大飛機高鐵一帶一路網(wǎng)絡(luò)教育諸多概念于一身
公司是專業(yè)從事金屬材料檢測技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務(wù)或產(chǎn)品包括第三方檢測服務(wù)、檢測分析儀器、標準物質(zhì)/標準樣品、能力驗證服務(wù)、腐蝕防護工程與產(chǎn)品，以及其他檢測延伸服務(wù)。公司服務(wù)和產(chǎn)品主要應(yīng)用于鋼鐵、冶金、有色、機械、航空航天、高鐵、核電、汽車、新材料、環(huán)境、食品、石化等領(lǐng)域。 公司是國內(nèi)鋼鐵行業(yè)的檢測機構(gòu)，也是國內(nèi)金屬材料檢測領(lǐng)域業(yè)務(wù)門類齊全、綜合實力的測試研究機構(gòu)之一。公司擁有“國家鋼鐵材料測試中心”、“國家鋼鐵產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心”、“國家冶金工業(yè)鋼材無損檢測中心”三個檢測中心和“國家新材料測試評價平臺——鋼鐵行業(yè)中心”、“金屬新材料檢測與表征裝備國家地方聯(lián)合工程實驗室”、“工業(yè)（特殊鋼）產(chǎn)品質(zhì)量控制和技術(shù)評價實驗室”三個科技創(chuàng)新平臺。公司或子公司是中國新材料測試評價聯(lián)盟發(fā)起單位與副理事長單位、北京材料分析測試服務(wù)聯(lián)盟發(fā)起單位、中關(guān)村材料試驗技術(shù)聯(lián)盟（CSTM）理事單位、中國分析測試協(xié)會理事單位、中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會分析儀器分會理事單位、CNAS實驗室專門會能力驗證專業(yè)會秘書處、CUPT能力驗證聯(lián)盟理事長單位等。公司控股股東為中國鋼研科技集團有限公司。中國鋼研是直接管轄的企業(yè)，是我國金屬新材料研發(fā)基地、冶金行業(yè)重大關(guān)鍵與共性技術(shù)的創(chuàng)新基地。中國鋼研（含下屬單位）承擔了大量國家重大項目和課題，為國家重大工程需求以及石化、電力、冶金、船舶、航空航天、機械等行業(yè)的用戶提供了技術(shù)解決方案、技術(shù)服務(wù)和相關(guān)產(chǎn)品。截至2019年末公司擁有博士研究生23人、碩士研究生205人，研究生學(xué)歷占比超過30%，本科以上學(xué)歷占比超過75%。公司正在打造一支以科學(xué)家王海舟院士為首的具有國際競爭力的科研和技術(shù)服務(wù)團隊。公司是我國金屬材料檢測領(lǐng)域的先行者。公司及子公司牽頭制修訂7項國際標準、參與制修訂國際標準20余項、制定170余項國家及行業(yè)標準；公司研制檢測用的和行業(yè)級標準物質(zhì)/標準樣品共700多種，其中標準物質(zhì)/標準樣品300多種。公司充分發(fā)揮技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢，承擔了大量的國家重大課題，近五年承擔的國家科學(xué)技術(shù)部、工業(yè)和信息化部、、中國工程院及國家自然科學(xué)基金委等項目達29項。同時，公司檢測技術(shù)及其產(chǎn)品多次獲得、省部級重大獎項，如國家科學(xué)技術(shù)進步獎二等獎、山東省科學(xué)技術(shù)進步獎一等獎、全國稀土標準化技術(shù)會技術(shù)標準優(yōu)秀獎一等獎、中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會自主創(chuàng)新金獎、國家知識產(chǎn)權(quán)局中國專利優(yōu)秀獎等。截至2019年上半年，公司擁有專利136項，其中發(fā)明專利66項，擁有軟件著作權(quán)41項。公司的技術(shù)力量雄厚，國際互認度高。公司擁有國內(nèi)通過美國國家航空航天和國防供應(yīng)商認可（NADCAP）的材料檢測實驗室，并取得了英國羅爾斯羅伊斯（Rolls-Royce）、美國霍尼韋爾（Honeywell）、福特汽車公司（Ford）、中國商用飛機有限責(zé)任公司等眾多知名公司的供應(yīng)商認證。公司在高速鐵路、商用飛機、航空航天工程、核電工業(yè)以及北京等國家重大工程、重點項目中承擔了材料檢測等攻堅任務(wù)，擁有豐富的工業(yè)領(lǐng)域知識；如：2011年至2012年公司曾受和中國工程院委托負責(zé)對中國高鐵車輪及無縫線路進行全面質(zhì)量評價；2016年公司完成了中國石化大型能源項目“新粵浙”新疆煤制天然氣外輸管道工程X80管線鋼第三方評價任務(wù)；公司還在大飛機用鋼鐵材料檢測占據(jù)重要位置，成為大型客機用鋼鐵類材料的適航認證的重要承擔單位，與中國商用飛機有限責(zé)任公司和中航商用航空發(fā)動機有限責(zé)任公司建立了密切的合作關(guān)系。

PlasmaMS 300 內(nèi)標元素的選擇
內(nèi)標元素的使用可以用來校正多樣品測定的過程中，信號隨著時間發(fā)生的漂移。實驗室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化（例如粘度等）都會造成信號的漂移。
對于任何的多元素分析，我們都推薦用戶至少使用一個內(nèi)標元素。如果待測元素的質(zhì)量分 布從低到高都有，應(yīng)當至少使用3個內(nèi)標元素，分別檢測低質(zhì)量、中質(zhì)量、高質(zhì)量區(qū)段的 同位素信號漂移。
選擇什么同位素作為內(nèi)標元素需要根據(jù)您的方法中的待測目標同位素來決定。當需要為您 方法中的各個目標同位素分配內(nèi)標同位素的時候，可以考慮一下幾個因素：
1.首先考慮的，也是重要的一個因素就是：用作內(nèi)標的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內(nèi)標元素應(yīng)當精準地添加到每一個單溶液里。一般我們可以單獨配置內(nèi)標元素 溶液，然后在分析的時候進行在線添加，可以保證添加的精準性。內(nèi)標元素的信號強度會 做為參比，由軟件來對每個單溶液進樣時發(fā)生的信號抑制或增強進行計算和校正。如果您 的樣品中含有內(nèi)標元素，則內(nèi)標信號會發(fā)生額外的不規(guī)則的信號增強，造成軟件校正后的 目標元素濃度比實際濃度偏低。
2.其次，內(nèi)標元素的質(zhì)量數(shù)能和目標元素比較接近，建議內(nèi)標同位素和目標元素同位 素之間的質(zhì)量差不要超過50amu。
3.為了確保內(nèi)標元素和目標元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致，內(nèi)標元素和目標元素 的電離電位比較接近。
當使用內(nèi)標元素校正的時候，有兩種校正方式是可以供選擇的：
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法：任何分析元素同位素峰均能以任一內(nèi)標元素同位素峰作為參照。目標元素峰不需 要為內(nèi)標元素附近的峰。當使用參考法的時候，以校正空白(calibration blank)的內(nèi)標響應(yīng) 值作為100%，通過計算樣品中內(nèi)標元素的回收率，來校正進樣過程中的信號漂移。
樣品中的內(nèi)標元素回收率（相對于calibration blank中的100%而產(chǎn)生的偏離）會被用作校 正因子來校正目標同位素的數(shù)據(jù)（每種目標同位素所使用的內(nèi)標同位素都應(yīng)是其在方法中 選擇的用來參考的那一個內(nèi)標同位素）
插補法：內(nèi)標對測試峰的影響與兩者質(zhì)量數(shù)的接近程度有關(guān)。一個分析元素若置于兩內(nèi)標 物中間，可依據(jù)每個 amu 基數(shù)進行計算因素的校正。
首先：
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質(zhì)量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如：
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質(zhì)量變化相關(guān)的抑制（質(zhì)量數(shù)越大，受
到抑制越強），距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質(zhì)量數(shù)的元素， Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測量時，設(shè)置了一系列覆蓋質(zhì)量數(shù)區(qū)間的內(nèi)標元素，計算樣 品中的內(nèi)標元素回收率：
6Li 45Sc 115In 209Bi
因為所有的目標元素濃度都需要使用內(nèi)標回收率來進行校正,建議用戶將內(nèi)標元素的濃度 控制在一個合理范圍，來降低內(nèi)標的%RSD，一般說來我們建議內(nèi)標元素的
icps >100,000。

PlasmaMS的質(zhì)譜干擾消除辦法
PlasmaMS 300的另一類主要干擾是質(zhì)譜干擾。
1.多原子干擾(Polyatomic) – 與目標同位素原子質(zhì)量重合的多原子離子，所帶來的干擾
2. 同量異位素干擾(Isobaric) –與目標同位素原子具有相同質(zhì)量數(shù)的原子帶來的干擾(目標 原子與干擾原子的質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)都不同，但(質(zhì)子數(shù)+中子數(shù))相同)；也包括質(zhì)荷比相等 的不同元素離子形成的干擾。
多原子離子： 包括氬化合物、氫化物、氧化物
氬化合物的產(chǎn)率可以通過性能選項來降低：例如使用等離子體屏蔽環(huán)(PlasmaScreen)和 碰撞反應(yīng)池(CCT, Collision Cell Technology)。
這些干擾有時是氣體引起的：例如進樣時候引入的空氣、用來維持等離子體燃燒的氬氣。 還有的來自于樣品基體中的陰離子或者陽離子。
氧化物的產(chǎn)率可以通過調(diào)諧來降低：炬管和霧化器的位置、氣體流速對氧化物產(chǎn)率的影響 是的?；w引起的干擾很多都是氧化物，尤其是樣品中的主量元素，會在距離主量元 素16個amu的位置產(chǎn)生一個氧化物的干擾峰。這樣的干擾普遍存在，并且隨著基體氧化 物沸點的升高，這樣的干擾更加嚴重。我們可以使用空白扣減來降低這樣的干擾。
同量異位素干擾: 這種干擾指的是，存在著和目標元素原子質(zhì)量相同的干擾離子。要消除同量異位素干擾， 只能是盡可能選擇該元素的其它同位素來回避這樣的干擾。
還有一類特殊的同質(zhì)量干擾，如果干擾元素的二級電離電位(Isobaric interference)低于了 氬原子的一級電離電位(15.8ev)，這樣的元素原子在ICP中會形成雙電荷離子。對于雙電 荷離子的干擾，很難消除，但有的時候可以通過調(diào)諧來將干擾降低一些。如果可以的話， 通過更換更合適的同位素來解決。
如果用戶的目標元素是單同位素元素時，例如As，此時就不能采用更換同位素的辦法來 避免干擾。As元素是比較典型的單同位素元素，同時面臨著普遍的多原子干擾(40Ar 35Cl)，一旦有氯元素的存在，就存在40Ar 35Cl的干擾。

PlasmaMS 300型質(zhì)譜儀將ICP的高溫電離特性與四極桿質(zhì)譜計的靈敏快速掃描的優(yōu)點相結(jié)合而形成一種新型的有力的元素分析、同位素分析和形態(tài)分析技術(shù)。該技術(shù)具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、速度快、可進行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能，已從初在地質(zhì)科學(xué)研究的應(yīng)用迅速發(fā)展到環(huán)境保護、半導(dǎo)體、生物、醫(yī)學(xué)、冶金、石油、核材料分析等領(lǐng)域。