PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡(jiǎn)稱PlasmaMS 300，是鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀，作為一種精密無機(jī)元素分析儀器，它具有以下特點(diǎn)：
1.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)
1) 進(jìn)樣系統(tǒng)應(yīng)外置, 便于操作、更換和清洗；
2) 采用進(jìn)口霧化器，霧化效率高,不易堵塞；
3) 進(jìn)樣管路的長度盡可能短, 減少了記憶效應(yīng)。；
4) 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測(cè)試；
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長期穩(wěn)定；
6) 4通道12滾輪進(jìn)口蠕動(dòng)泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，效率高，功率可通過反饋調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)較高的穩(wěn)定性；
2) 自動(dòng)匹配速度快，保證了點(diǎn)火成功率；
3) 精準(zhǔn)控制的三維移動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)了炬管自動(dòng)定位及自動(dòng)校準(zhǔn)的功能；
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時(shí)，限度的讓所生成的離子通過；
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低；
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞，產(chǎn)生熱量盡可能少；
5) 易于拆卸和維護(hù)：錐口拆冼過程中，不影響真空系統(tǒng)，無需卸真空；
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)的離子光學(xué)系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率，聚集盡可能多的要測(cè)定的離子沿同樣方向進(jìn)入四極桿
3) 帶動(dòng)能歧視效應(yīng)的碰撞反應(yīng)池技術(shù)，有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾；
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術(shù)，能夠進(jìn)行自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧，使得儀器的自動(dòng)化程度和安全性能有了進(jìn)一步提高；
2) 內(nèi)部無連接線、頂部進(jìn)入的無線纜設(shè)計(jì)，使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性；
3) 的四極桿尺寸結(jié)合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來的分辨率和長期穩(wěn)定性，具有同時(shí)記錄所有元素譜線的“攝譜”功能，并能存儲(chǔ)和檢索；
4) 結(jié)合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來的靈敏度；
1.1.6 離子檢測(cè)和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器；
2) 即插即用設(shè)計(jì), 沒有任何連接線, 方便更換；
3) 軟件硬件控制檢測(cè)器過荷保護(hù)
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式，全質(zhì)量連續(xù)掃描； 跳峰掃描；兩者結(jié)合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng)，全自動(dòng)整機(jī)真空保護(hù)，保證儀器的正常工作；
2) 先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)了極低的待機(jī)功耗；
3) 獨(dú)特的防粉塵、防返油霧設(shè)計(jì)，有效隔斷油氣，解決機(jī)械泵油氣污染問題，確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等，上提供儀器保護(hù)，延長使用壽命；
2) 使用CAN總線結(jié)構(gòu), 其獨(dú)特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力；
3) 利用CAN總線的獨(dú)特優(yōu)勢(shì), 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測(cè)試各參數(shù)、自動(dòng)調(diào)諧、三維移動(dòng)平臺(tái)、透鏡電源等參數(shù)靈活設(shè)置；
2) 全中文的軟件界面，符合中國人的思維習(xí)慣，參數(shù)監(jiān)控和方法設(shè)置直觀快捷；可提供一鍵式（調(diào)諧、測(cè)試等）操作的功能；
3) 軟件可查看各個(gè)部件的實(shí)時(shí)運(yùn)行狀態(tài)以及故障報(bào)錯(cuò)，確保儀器的安全運(yùn)行

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對(duì)材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測(cè)定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時(shí)應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗(yàn)證

非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括： 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物：可以通過適當(dāng)?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體：這種干擾有時(shí)候可通過不同的樣品制備方法或適合的性能選項(xiàng)來降低，如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來校正這種類型的干擾，按照從易到難的順序排列在下面：
1. 如果檢出限允許的話，簡(jiǎn)單的辦法是對(duì)樣品進(jìn)行稀釋。
2. 使用內(nèi)標(biāo)校正
3. 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進(jìn)樣系統(tǒng))
5. 采用化學(xué)分離法將樣品中的基體進(jìn)行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式：信號(hào)抑制、信號(hào)漂移。其中內(nèi)標(biāo)校正是使
用廣泛的用來校正物理干擾的技術(shù)手段。
在進(jìn)行多樣品序列分析時(shí)，內(nèi)標(biāo)可以用來校正隨著時(shí)間推移而發(fā)生的信號(hào)漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會(huì)引起信號(hào)的漂移。錐口鹽沉積也會(huì)引起 信號(hào)的漂移。
如果需要測(cè)量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素，也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素)，使用多種內(nèi)標(biāo)進(jìn)行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標(biāo)選擇)中已經(jīng)詳細(xì)介紹過內(nèi)標(biāo)的使用原則，用戶可以進(jìn)行參考。
標(biāo)準(zhǔn)加入法是另外一種廣泛使用的用來校正非質(zhì)譜干擾的手段。當(dāng)基體抑制效應(yīng)無法通過 稀釋或基體剝離來去除的時(shí)候，可以用標(biāo)準(zhǔn)加入法來降低干擾。

PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應(yīng)用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中，樣品多種多樣，質(zhì)譜分布范圍很廣，因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個(gè)礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進(jìn)行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質(zhì)樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質(zhì)的原始和進(jìn)化 水沉積物和地下水