鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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光電直讀光譜儀-全譜火花直讀光譜儀
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icp直讀光譜儀 鋼研納克單道ICP 35年方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn) 鋼研納克 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
北京市
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商品介紹
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光學(xué)系統(tǒng) 帕邢 - 龍格架發(fā)
光柵焦距 750mm
刻線 2400 條 /mm
譜線范圍 170-500nm
一級(jí)色散率 0.55nm/mm
二級(jí)色散率 0.275nm/mm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
商品介紹
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱,就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量,稱為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
由中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)主辦的北京第分析測(cè)試學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)及展覽會(huì)(BCEIA2019)在國(guó)家會(huì)議中心隆重召開(kāi)。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱:鋼研納克)分析儀器、檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、能力驗(yàn)證業(yè)務(wù)分三個(gè)展區(qū)亮相本次展會(huì)。
在本次展會(huì)上,鋼研納克攜國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)產(chǎn)品“電感耦合等離子體光譜儀、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀”以及全新一代SparkCCD7000全譜火花直讀光譜儀參展,受到業(yè)內(nèi)的高度關(guān)注。大會(huì)程津培院士在中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英的陪同下參觀鋼研納克展臺(tái),并就國(guó)產(chǎn)分析儀器的發(fā)展提出了指導(dǎo)性的建議。
光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中,可以見(jiàn)到各種不同的,如紅、黃、蘭、白色光。太陽(yáng)光經(jīng)三棱鏡后,會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭,紫排列的色帶,還有人們?nèi)庋鬯床灰?jiàn)的光如紫外線,紅外線,γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間,這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講,各種電磁輻射都屬于光譜,一般按其波長(zhǎng)可分為:
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為:
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200~380nm
可見(jiàn)光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注:1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng),大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言,從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的,通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線,就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種,因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜,稱原子光譜,如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的,通常呈帶狀分布,是分子光譜產(chǎn)生,如在光譜分析中采用炭電極,在高溫時(shí),炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子,當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜,稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的,是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來(lái)的,所以連續(xù)光譜是無(wú)限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析,一般是指“原子發(fā)射光譜分析”,光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見(jiàn)光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120.0nm,因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來(lái)分析鋼中的重要元素。
鋼研納克直讀光譜儀,業(yè)界標(biāo)桿產(chǎn)品,中國(guó)直讀光譜儀領(lǐng)跑者!源于中國(guó)冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)鋼鐵研究總院,具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn),金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者。20年直讀光譜儀制造歷史,做更專業(yè)的光譜儀!直讀光譜儀國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位,央企品牌,上市公司,品質(zhì)服務(wù)!
直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱,就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量,稱為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
由中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)主辦的北京第分析測(cè)試學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)及展覽會(huì)(BCEIA2019)在國(guó)家會(huì)議中心隆重召開(kāi)。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱:鋼研納克)分析儀器、檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、能力驗(yàn)證業(yè)務(wù)分三個(gè)展區(qū)亮相本次展會(huì)。
在本次展會(huì)上,鋼研納克攜國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)產(chǎn)品“電感耦合等離子體光譜儀、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀”以及全新一代SparkCCD7000全譜火花直讀光譜儀參展,受到業(yè)內(nèi)的高度關(guān)注。大會(huì)程津培院士在中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英的陪同下參觀鋼研納克展臺(tái),并就國(guó)產(chǎn)分析儀器的發(fā)展提出了指導(dǎo)性的建議。
光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中,可以見(jiàn)到各種不同的,如紅、黃、蘭、白色光。太陽(yáng)光經(jīng)三棱鏡后,會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭,紫排列的色帶,還有人們?nèi)庋鬯床灰?jiàn)的光如紫外線,紅外線,γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間,這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講,各種電磁輻射都屬于光譜,一般按其波長(zhǎng)可分為:
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為:
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200~380nm
可見(jiàn)光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注:1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng),大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言,從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的,通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線,就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種,因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜,稱原子光譜,如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的,通常呈帶狀分布,是分子光譜產(chǎn)生,如在光譜分析中采用炭電極,在高溫時(shí),炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子,當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜,稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的,是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來(lái)的,所以連續(xù)光譜是無(wú)限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析,一般是指“原子發(fā)射光譜分析”,光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見(jiàn)光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120.0nm,因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來(lái)分析鋼中的重要元素。
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直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
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