化學(xué)光刻膠 Futurrex 負(fù)性光刻膠 負(fù)性光刻膠公司
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縱橫比 4.5
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
光刻膠型號(hào) NR5-8000
膜厚 54μm
掩模尺寸 12μm
曝光能量 1100 mJ/cm22
聚焦補(bǔ)償 -15μm
耐溫 150度
產(chǎn)品編號(hào) 10562374
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng):光刻膠




光刻膠

賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)、銷售光刻膠,以下信息由賽米萊德為您提供。

1959 年被發(fā)明以來(lái)就成為半導(dǎo)體工業(yè)核心的工藝材料之一。隨后光刻膠被改進(jìn)運(yùn)用到印制電路板的制造工藝,成為 PCB 生產(chǎn)的重要材料。

二十世紀(jì) 90 年代,光刻膠又被運(yùn)用到平板顯示的加工制作,對(duì)平板顯示面板的大尺寸化、高精細(xì)化、彩色化起到了重要的推動(dòng)作用。

在半導(dǎo)體制造業(yè)從微米級(jí)、亞微米級(jí)、深亞微米級(jí)進(jìn)入到納米級(jí)水平的過(guò)程中,光刻膠也起著舉足輕重的作用。

總結(jié)來(lái)說(shuō),光刻膠產(chǎn)品種類多、專用性強(qiáng),需要長(zhǎng)期技術(shù)積累,對(duì)企業(yè)研發(fā)人員素質(zhì)、行業(yè)經(jīng)驗(yàn)、技術(shù)儲(chǔ)備等都具有極高要求,企業(yè)需要具備光化學(xué)、有機(jī)合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評(píng)價(jià)等技術(shù),具有極高的技術(shù)壁壘。



光刻膠的生產(chǎn)步驟

1、準(zhǔn)備基質(zhì):在涂布光阻劑之前,硅片一般要進(jìn)行處理,需要經(jīng)過(guò)脫水烘培蒸發(fā)掉硅片表面的水分,并涂上用來(lái)增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物以及硅二乙胺。

2、涂布光阻劑(photo resist):將硅片放在一個(gè)平整的金屬托盤上,托盤內(nèi)有小孔與真空管相連,硅片就被吸在托盤上,這樣硅片就可以與托盤一起旋轉(zhuǎn)。

3、軟烘干:也稱前烘。在液態(tài)的光刻膠中,溶劑成分占65%-85%,甩膠之后雖然液態(tài)的光刻膠已經(jīng)成為固態(tài)的薄膜,但仍有10%-30%的溶劑,容易玷污灰塵。通過(guò)在較高溫度下進(jìn)行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發(fā)出來(lái),從而降低了灰塵的玷污。

4、曝光:曝光過(guò)程中,光刻膠中的感光劑發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),從而使正膠的感光區(qū)、負(fù)膠的非感光區(qū)能夠溶解于顯影液中。正性光刻膠中的感光劑DQ發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),變?yōu)橐蚁┩M(jìn)一步水解為茚并羧酸,羧酸對(duì)堿性溶劑的溶解度比未感光的感光劑高出約100倍,同時(shí)還會(huì)促進(jìn)酚醛樹脂的溶解。于是利用感光與未感光的光刻膠對(duì)堿性溶劑的不同溶解度,就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。

5、顯影(development) :經(jīng)顯影,正膠的感光區(qū)、負(fù)膠的非感光區(qū)溶解于顯影液中,曝光后在光刻膠層中的潛在圖形,顯影后便顯現(xiàn)出來(lái),在光刻膠上形成三位圖形。為了提高分辨率,幾乎每一種光刻膠都有專門的顯影液,以保證高質(zhì)量的顯影效果。

6、硬烘干:也稱堅(jiān)膜。顯影后,硅片還要經(jīng)過(guò)一個(gè)高溫處理過(guò)程,主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強(qiáng)光刻膠對(duì)硅片表面的附著力,同時(shí)提高光刻膠在刻蝕和離子注入過(guò)程中的抗蝕性和保護(hù)能力。

7、刻(腐)蝕或離子注入

8、去膠:刻蝕或離子注入之后,已經(jīng)不再需要光刻膠作保護(hù)層,可以將其除去,稱為去膠,分為濕法去膠和干法去膠,其中濕法去膠又分去膠和無(wú)機(jī)溶劑去膠。


以上內(nèi)容由賽米萊德為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助!



如何選購(gòu)光刻膠?

光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過(guò)改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是的,但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對(duì)光刻膠進(jìn)行合理的選擇。

劃分光刻膠的一個(gè)基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過(guò)程中,正性光刻膠曝過(guò)光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙?,而曝光的區(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是的,因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及,但MEMS系統(tǒng)中,由于加工要求相對(duì)較低,光刻膠需求量大,負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場(chǎng)。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。


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