PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗證

非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括： 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物：可以通過適當(dāng)?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體：這種干擾有時候可通過不同的樣品制備方法或適合的性能選項來降低，如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來校正這種類型的干擾，按照從易到難的順序排列在下面：
1. 如果檢出限允許的話，簡單的辦法是對樣品進(jìn)行稀釋。
2. 使用內(nèi)標(biāo)校正
3. 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進(jìn)樣系統(tǒng))
5. 采用化學(xué)分離法將樣品中的基體進(jìn)行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式：信號抑制、信號漂移。其中內(nèi)標(biāo)校正是使
用廣泛的用來校正物理干擾的技術(shù)手段。
在進(jìn)行多樣品序列分析時，內(nèi)標(biāo)可以用來校正隨著時間推移而發(fā)生的信號漂移。實驗室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會引起信號的漂移。錐口鹽沉積也會引起 信號的漂移。
如果需要測量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素，也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素)，使用多種內(nèi)標(biāo)進(jìn)行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標(biāo)選擇)中已經(jīng)詳細(xì)介紹過內(nèi)標(biāo)的使用原則，用戶可以進(jìn)行參考。
標(biāo)準(zhǔn)加入法是另外一種廣泛使用的用來校正非質(zhì)譜干擾的手段。當(dāng)基體抑制效應(yīng)無法通過 稀釋或基體剝離來去除的時候，可以用標(biāo)準(zhǔn)加入法來降低干擾。

公司主要技術(shù)和產(chǎn)品的創(chuàng)新歷程
公司是我國金屬材料檢測領(lǐng)域的先行者。基于原鋼研院自 1954 年以來在金 屬材料和冶金工藝分析測試領(lǐng)域的技術(shù)積淀，公司于 2001 年成立，已逐步搭建 起強(qiáng)大的技術(shù)創(chuàng)新體系。公司自成立以來一直面向國家重大工程及重點項目需 求，不斷開發(fā)新技術(shù)、新標(biāo)準(zhǔn)、新產(chǎn)品，屢次解決國家及行業(yè)在金屬檢測技術(shù)及 儀器裝備領(lǐng)域的瓶頸，不斷實現(xiàn)重大技術(shù)突破，解決“卡脖子”問題，引領(lǐng)國內(nèi)金 屬檢測和檢測分析儀器的技術(shù)進(jìn)步與創(chuàng)新。 憑借完善的創(chuàng)新體系和持續(xù)創(chuàng)新能力，公司目前擁有了在金屬材料檢測領(lǐng)域 的檢測、表征、評價和認(rèn)證服務(wù)能力，同時開發(fā)出一系列具有完全自主知識 產(chǎn)權(quán)和首創(chuàng)性的儀器產(chǎn)品。
公司檢測分析儀器可分為原子光譜、X 射線熒光光譜、氣體元素分析、質(zhì)譜、 力學(xué)、無損探傷及環(huán)境監(jiān)測七大類，產(chǎn)品類型豐富，目前共有 40 多種產(chǎn)品型號， 覆蓋金屬材料檢測、環(huán)境監(jiān)測、食品藥品檢測等應(yīng)用領(lǐng)域。

PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應(yīng)用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中，樣品多種多樣，質(zhì)譜分布范圍很廣，因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進(jìn)行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質(zhì)樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質(zhì)的原始和進(jìn)化 水沉積物和地下水