蕪湖鑫光防腐設(shè)備有限責(zé)任公司主營：廢氣處理設(shè)備,粉塵治理,化工防腐設(shè)備

工業(yè)有機(jī)廢氣治理和惡臭氣體處理先進(jìn)技術(shù)

含硫類惡臭處理:惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)中重點(diǎn)控制9種指標(biāo)，其中5種為硫化物，分別為，通常是惡臭的主要來源。我們采用游離基光子催化氧化技術(shù)來去除硫化物。將硫化物氧化為壞含硫的惡臭基團(tuán)。

游離基光子催化氧化FRP（Free Radical Photolysis）技術(shù)是目前工業(yè)有機(jī)廢氣和惡臭氣體處理領(lǐng)域蕞進(jìn)的技術(shù)之一，是我公司引進(jìn)消化日本、德國先進(jìn)技術(shù)基礎(chǔ)上，自主研發(fā)的國家專利技術(shù)，其設(shè)計(jì)開發(fā)充分考慮了工業(yè)有機(jī)廢氣組分的復(fù)雜性和不確定性，為系統(tǒng)設(shè)計(jì)、成套、調(diào)試、維護(hù)等提供了極大的可靠性和靈活性。

技術(shù)原理

游離基光子催化氧化將游離基的強(qiáng)氧化性和TiO2的催化特性、特定波長的紫外光照降解特性有效結(jié)合在一起，對廢氣進(jìn)行光催化氧化。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí)，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。

低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。 低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒1殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導(dǎo)致二次污染。

一、廢氣洗滌塔：

廢氣洗滌塔一般為立式噴淋洗滌填料塔，內(nèi)部噴頭和填料層交替分布。填料具有較大的比表面積，用于增加兩種流體間的接觸面積。廢氣由底部進(jìn)入，經(jīng)填料層和除霧器后，由頂部排出。液體被水泵送到噴頭噴出，向下降落，經(jīng)填料層回到水箱。廢氣中的雜質(zhì)粘附在填料上，后在水流作用下進(jìn)入水箱，達(dá)到截留目的。水箱中的雜質(zhì)需定期清理，污水需定期排放。

二、光解式廢氣凈化設(shè)備：

通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無毒無害無味氣體。破壞–采用高能C波段光線強(qiáng)裂污染氣體分子鏈，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。通俗的講光催化氧化就是在外界可見光的作用下發(fā)作催化作用,光催化氧化反應(yīng)是以半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機(jī)物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。

三、低溫等離子廢氣處理設(shè)備：

低溫等離子技術(shù)在是廢氣處理的前沿技術(shù)，對煙塵處理方面優(yōu)勢顯著。其基本原理是在電場在高壓作用下，產(chǎn)生高能電子，當(dāng)電子平均能量超過目標(biāo)治理物分子化學(xué)鍵能時(shí)， 分子鍵斷裂，達(dá)到消除氣態(tài)污染物的目的。