鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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電感耦合等離子體質(zhì)譜器
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icp直讀光譜儀 鋼研納克單道ICP 35年方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn) 鋼研納克 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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商品參數(shù)
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商品介紹
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測(cè)試范圍 2-255amu
功率 600-1600W連續(xù)可調(diào)
測(cè)量精度 0.5-1.1amu連續(xù)可調(diào)
型號(hào) PlasmaMS 300
矩管材質(zhì) 石英
生產(chǎn)廠家 鋼研納克
商品介紹
PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度:15℃~26℃,室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過(guò)3攝氏度,推薦室溫22℃;
2) 相對(duì)濕度:20~60%,無(wú)冷凝。濕度大的地區(qū)請(qǐng)配備除濕機(jī);
3) Ar純度>99.996%,配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ恚雰x器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa,氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min;如果選配了He碰撞氣,請(qǐng)準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè),減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa,減壓閥后端接4mm管適配器,He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源:總供電三相五線(3相線,零線,地線),額定電流40A以上;主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電,需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開(kāi)關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h,在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請(qǐng)注意,這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求),建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥,以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無(wú)煙,無(wú)腐蝕性的環(huán)境下,無(wú)振動(dòng),不受陽(yáng)光直射,遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品;
7) 接地良好(接地電阻≤4Ω)。
非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括: 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物:可以通過(guò)適當(dāng)?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體:這種干擾有時(shí)候可通過(guò)不同的樣品制備方法或適合的性能選項(xiàng)來(lái)降低,如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來(lái)校正這種類型的干擾,按照從易到難的順序排列在下面:
1. 如果檢出限允許的話,簡(jiǎn)單的辦法是對(duì)樣品進(jìn)行稀釋。
2. 使用內(nèi)標(biāo)校正
3. 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進(jìn)樣系統(tǒng))
5. 采用化學(xué)分離法將樣品中的基體進(jìn)行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式:信號(hào)抑制、信號(hào)漂移。其中內(nèi)標(biāo)校正是使
用廣泛的用來(lái)校正物理干擾的技術(shù)手段。
在進(jìn)行多樣品序列分析時(shí),內(nèi)標(biāo)可以用來(lái)校正隨著時(shí)間推移而發(fā)生的信號(hào)漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會(huì)引起信號(hào)的漂移。錐口鹽沉積也會(huì)引起 信號(hào)的漂移。
如果需要測(cè)量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素,也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素),使用多種內(nèi)標(biāo)進(jìn)行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標(biāo)選擇)中已經(jīng)詳細(xì)介紹過(guò)內(nèi)標(biāo)的使用原則,用戶可以進(jìn)行參考。
標(biāo)準(zhǔn)加入法是另外一種廣泛使用的用來(lái)校正非質(zhì)譜干擾的手段。當(dāng)基體抑制效應(yīng)無(wú)法通過(guò) 稀釋或基體剝離來(lái)去除的時(shí)候,可以用標(biāo)準(zhǔn)加入法來(lái)降低干擾。
公司主要技術(shù)和產(chǎn)品的創(chuàng)新歷程
公司是我國(guó)金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域的先行者?;谠撗性鹤?1954 年以來(lái)在金 屬材料和冶金工藝分析測(cè)試領(lǐng)域的技術(shù)積淀,公司于 2001 年成立,已逐步搭建 起強(qiáng)大的技術(shù)創(chuàng)新體系。公司自成立以來(lái)一直面向國(guó)家重大工程及重點(diǎn)項(xiàng)目需 求,不斷開(kāi)發(fā)新技術(shù)、新標(biāo)準(zhǔn)、新產(chǎn)品,屢次解決國(guó)家及行業(yè)在金屬檢測(cè)技術(shù)及 儀器裝備領(lǐng)域的瓶頸,不斷實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破,解決“卡脖子”問(wèn)題,引領(lǐng)國(guó)內(nèi)金 屬檢測(cè)和檢測(cè)分析儀器的技術(shù)進(jìn)步與創(chuàng)新。 憑借完善的創(chuàng)新體系和持續(xù)創(chuàng)新能力,公司目前擁有了在金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域 的檢測(cè)、表征、評(píng)價(jià)和認(rèn)證服務(wù)能力,同時(shí)開(kāi)發(fā)出一系列具有完全自主知識(shí) 產(chǎn)權(quán)和首創(chuàng)性的儀器產(chǎn)品。
公司檢測(cè)分析儀器可分為原子光譜、X 射線熒光光譜、氣體元素分析、質(zhì)譜、 力學(xué)、無(wú)損探傷及環(huán)境監(jiān)測(cè)七大類,產(chǎn)品類型豐富,目前共有 40 多種產(chǎn)品型號(hào), 覆蓋金屬材料檢測(cè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品藥品檢測(cè)等應(yīng)用領(lǐng)域。
PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡(jiǎn)稱PlasmaMS 300,是鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀,作為一種精密無(wú)機(jī)元素分析儀器,它具有以下特點(diǎn):
1.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)
1) 進(jìn)樣系統(tǒng)應(yīng)外置, 便于操作、更換和清洗;
2) 采用進(jìn)口霧化器,霧化效率高,不易堵塞;
3) 進(jìn)樣管路的長(zhǎng)度盡可能短, 減少了記憶效應(yīng)。;
4) 儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸(HF)等樣品的測(cè)試;
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定;
6) 4通道12滾輪進(jìn)口蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,效率高,功率可通過(guò)反饋調(diào)節(jié),實(shí)現(xiàn)較高的穩(wěn)定性;
2) 自動(dòng)匹配速度快,保證了點(diǎn)火成功率;
3) 精準(zhǔn)控制的三維移動(dòng)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了炬管自動(dòng)定位及自動(dòng)校準(zhǔn)的功能;
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸;
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時(shí),限度的讓所生成的離子通過(guò);
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低;
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞,產(chǎn)生熱量盡可能少;
5) 易于拆卸和維護(hù):錐口拆冼過(guò)程中,不影響真空系統(tǒng),無(wú)需卸真空;
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)的離子光學(xué)系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率,聚集盡可能多的要測(cè)定的離子沿同樣方向進(jìn)入四極桿
3) 帶動(dòng)能歧視效應(yīng)的碰撞反應(yīng)池技術(shù),有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾;
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術(shù),能夠進(jìn)行自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧,使得儀器的自動(dòng)化程度和安全性能有了進(jìn)一步提高;
2) 內(nèi)部無(wú)連接線、頂部進(jìn)入的無(wú)線纜設(shè)計(jì),使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性;
3) 的四極桿尺寸結(jié)合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來(lái)的分辨率和長(zhǎng)期穩(wěn)定性,具有同時(shí)記錄所有元素譜線的“攝譜”功能,并能存儲(chǔ)和檢索;
4) 結(jié)合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來(lái)的靈敏度;
1.1.6 離子檢測(cè)和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器;
2) 即插即用設(shè)計(jì), 沒(méi)有任何連接線, 方便更換;
3) 軟件硬件控制檢測(cè)器過(guò)荷保護(hù)
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式,全質(zhì)量連續(xù)掃描; 跳峰掃描;兩者結(jié)合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開(kāi)發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng),全自動(dòng)整機(jī)真空保護(hù),保證儀器的正常工作;
2) 先進(jìn)的緩沖技術(shù),機(jī)械泵間斷運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)了極低的待機(jī)功耗;
3) 獨(dú)特的防粉塵、防返油霧設(shè)計(jì),有效隔斷油氣,解決機(jī)械泵油氣污染問(wèn)題,確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等,上提供儀器保護(hù),延長(zhǎng)使用壽命;
2) 使用CAN總線結(jié)構(gòu), 其獨(dú)特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力;
3) 利用CAN總線的獨(dú)特優(yōu)勢(shì), 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測(cè)試各參數(shù)、自動(dòng)調(diào)諧、三維移動(dòng)平臺(tái)、透鏡電源等參數(shù)靈活設(shè)置;
2) 全中文的軟件界面,符合中國(guó)人的思維習(xí)慣,參數(shù)監(jiān)控和方法設(shè)置直觀快捷;可提供一鍵式(調(diào)諧、測(cè)試等)操作的功能;
3) 軟件可查看各個(gè)部件的實(shí)時(shí)運(yùn)行狀態(tài)以及故障報(bào)錯(cuò),確保儀器的安全運(yùn)行
1) 環(huán)境溫度:15℃~26℃,室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過(guò)3攝氏度,推薦室溫22℃;
2) 相對(duì)濕度:20~60%,無(wú)冷凝。濕度大的地區(qū)請(qǐng)配備除濕機(jī);
3) Ar純度>99.996%,配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ恚雰x器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa,氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min;如果選配了He碰撞氣,請(qǐng)準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè),減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa,減壓閥后端接4mm管適配器,He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源:總供電三相五線(3相線,零線,地線),額定電流40A以上;主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電,需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開(kāi)關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h,在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請(qǐng)注意,這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求),建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥,以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無(wú)煙,無(wú)腐蝕性的環(huán)境下,無(wú)振動(dòng),不受陽(yáng)光直射,遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品;
7) 接地良好(接地電阻≤4Ω)。
非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括: 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物:可以通過(guò)適當(dāng)?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體:這種干擾有時(shí)候可通過(guò)不同的樣品制備方法或適合的性能選項(xiàng)來(lái)降低,如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來(lái)校正這種類型的干擾,按照從易到難的順序排列在下面:
1. 如果檢出限允許的話,簡(jiǎn)單的辦法是對(duì)樣品進(jìn)行稀釋。
2. 使用內(nèi)標(biāo)校正
3. 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進(jìn)樣系統(tǒng))
5. 采用化學(xué)分離法將樣品中的基體進(jìn)行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式:信號(hào)抑制、信號(hào)漂移。其中內(nèi)標(biāo)校正是使
用廣泛的用來(lái)校正物理干擾的技術(shù)手段。
在進(jìn)行多樣品序列分析時(shí),內(nèi)標(biāo)可以用來(lái)校正隨著時(shí)間推移而發(fā)生的信號(hào)漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會(huì)引起信號(hào)的漂移。錐口鹽沉積也會(huì)引起 信號(hào)的漂移。
如果需要測(cè)量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素,也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素),使用多種內(nèi)標(biāo)進(jìn)行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標(biāo)選擇)中已經(jīng)詳細(xì)介紹過(guò)內(nèi)標(biāo)的使用原則,用戶可以進(jìn)行參考。
標(biāo)準(zhǔn)加入法是另外一種廣泛使用的用來(lái)校正非質(zhì)譜干擾的手段。當(dāng)基體抑制效應(yīng)無(wú)法通過(guò) 稀釋或基體剝離來(lái)去除的時(shí)候,可以用標(biāo)準(zhǔn)加入法來(lái)降低干擾。
公司主要技術(shù)和產(chǎn)品的創(chuàng)新歷程
公司是我國(guó)金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域的先行者?;谠撗性鹤?1954 年以來(lái)在金 屬材料和冶金工藝分析測(cè)試領(lǐng)域的技術(shù)積淀,公司于 2001 年成立,已逐步搭建 起強(qiáng)大的技術(shù)創(chuàng)新體系。公司自成立以來(lái)一直面向國(guó)家重大工程及重點(diǎn)項(xiàng)目需 求,不斷開(kāi)發(fā)新技術(shù)、新標(biāo)準(zhǔn)、新產(chǎn)品,屢次解決國(guó)家及行業(yè)在金屬檢測(cè)技術(shù)及 儀器裝備領(lǐng)域的瓶頸,不斷實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破,解決“卡脖子”問(wèn)題,引領(lǐng)國(guó)內(nèi)金 屬檢測(cè)和檢測(cè)分析儀器的技術(shù)進(jìn)步與創(chuàng)新。 憑借完善的創(chuàng)新體系和持續(xù)創(chuàng)新能力,公司目前擁有了在金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域 的檢測(cè)、表征、評(píng)價(jià)和認(rèn)證服務(wù)能力,同時(shí)開(kāi)發(fā)出一系列具有完全自主知識(shí) 產(chǎn)權(quán)和首創(chuàng)性的儀器產(chǎn)品。
公司檢測(cè)分析儀器可分為原子光譜、X 射線熒光光譜、氣體元素分析、質(zhì)譜、 力學(xué)、無(wú)損探傷及環(huán)境監(jiān)測(cè)七大類,產(chǎn)品類型豐富,目前共有 40 多種產(chǎn)品型號(hào), 覆蓋金屬材料檢測(cè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品藥品檢測(cè)等應(yīng)用領(lǐng)域。
PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡(jiǎn)稱PlasmaMS 300,是鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀,作為一種精密無(wú)機(jī)元素分析儀器,它具有以下特點(diǎn):
1.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)
1) 進(jìn)樣系統(tǒng)應(yīng)外置, 便于操作、更換和清洗;
2) 采用進(jìn)口霧化器,霧化效率高,不易堵塞;
3) 進(jìn)樣管路的長(zhǎng)度盡可能短, 減少了記憶效應(yīng)。;
4) 儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸(HF)等樣品的測(cè)試;
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定;
6) 4通道12滾輪進(jìn)口蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,效率高,功率可通過(guò)反饋調(diào)節(jié),實(shí)現(xiàn)較高的穩(wěn)定性;
2) 自動(dòng)匹配速度快,保證了點(diǎn)火成功率;
3) 精準(zhǔn)控制的三維移動(dòng)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了炬管自動(dòng)定位及自動(dòng)校準(zhǔn)的功能;
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸;
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時(shí),限度的讓所生成的離子通過(guò);
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低;
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞,產(chǎn)生熱量盡可能少;
5) 易于拆卸和維護(hù):錐口拆冼過(guò)程中,不影響真空系統(tǒng),無(wú)需卸真空;
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)的離子光學(xué)系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率,聚集盡可能多的要測(cè)定的離子沿同樣方向進(jìn)入四極桿
3) 帶動(dòng)能歧視效應(yīng)的碰撞反應(yīng)池技術(shù),有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾;
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術(shù),能夠進(jìn)行自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧,使得儀器的自動(dòng)化程度和安全性能有了進(jìn)一步提高;
2) 內(nèi)部無(wú)連接線、頂部進(jìn)入的無(wú)線纜設(shè)計(jì),使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性;
3) 的四極桿尺寸結(jié)合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來(lái)的分辨率和長(zhǎng)期穩(wěn)定性,具有同時(shí)記錄所有元素譜線的“攝譜”功能,并能存儲(chǔ)和檢索;
4) 結(jié)合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來(lái)的靈敏度;
1.1.6 離子檢測(cè)和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器;
2) 即插即用設(shè)計(jì), 沒(méi)有任何連接線, 方便更換;
3) 軟件硬件控制檢測(cè)器過(guò)荷保護(hù)
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式,全質(zhì)量連續(xù)掃描; 跳峰掃描;兩者結(jié)合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開(kāi)發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng),全自動(dòng)整機(jī)真空保護(hù),保證儀器的正常工作;
2) 先進(jìn)的緩沖技術(shù),機(jī)械泵間斷運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)了極低的待機(jī)功耗;
3) 獨(dú)特的防粉塵、防返油霧設(shè)計(jì),有效隔斷油氣,解決機(jī)械泵油氣污染問(wèn)題,確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等,上提供儀器保護(hù),延長(zhǎng)使用壽命;
2) 使用CAN總線結(jié)構(gòu), 其獨(dú)特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力;
3) 利用CAN總線的獨(dú)特優(yōu)勢(shì), 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測(cè)試各參數(shù)、自動(dòng)調(diào)諧、三維移動(dòng)平臺(tái)、透鏡電源等參數(shù)靈活設(shè)置;
2) 全中文的軟件界面,符合中國(guó)人的思維習(xí)慣,參數(shù)監(jiān)控和方法設(shè)置直觀快捷;可提供一鍵式(調(diào)諧、測(cè)試等)操作的功能;
3) 軟件可查看各個(gè)部件的實(shí)時(shí)運(yùn)行狀態(tài)以及故障報(bào)錯(cuò),確保儀器的安全運(yùn)行
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