干擾效應(yīng)。 干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng)，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強(qiáng)度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個(gè)問(wèn)題。
分析試樣和標(biāo)樣影響。 在實(shí)際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過(guò)程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測(cè)分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過(guò)程和物理狀態(tài)保持一致，對(duì)試樣的分析結(jié)果進(jìn)行精確的控制。
取樣方法影響。 取樣方法和對(duì)樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準(zhǔn)確度的重要而關(guān)鍵的因素。爐前分析時(shí)要對(duì)爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進(jìn)行，如果檢測(cè)的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問(wèn)題，要重新進(jìn)行取樣檢測(cè)。對(duì)于低碳鋼材料要將其置入流水中進(jìn)行驟降溫處理，確保樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體，從而有效提升碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。但要引起注意的是，對(duì)于高碳樣品進(jìn)行切割后，不能采取驟降溫的方式進(jìn)行處理，防止因?yàn)轶E降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外，對(duì)于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測(cè)和分析，要確保所檢測(cè)的樣品進(jìn)行白口化，并確保取樣的溫度、脫模時(shí)間、冷卻速度標(biāo)準(zhǔn)和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測(cè)分析，要選擇適合的研磨工具，通常使用氧化鋁砂輪片進(jìn)行打磨，要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài)，不能太粗或太細(xì)。需要強(qiáng)調(diào)的是，試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米，除去樣品表面的氧化層，防止檢測(cè)結(jié)果的不準(zhǔn)確，氧化層對(duì)碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性影響更大。
其它因素影響。 光電光譜檢測(cè)分析存在的誤差在所難免，要正確的認(rèn)識(shí)誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測(cè)分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：
1.人的因素： 操作者的質(zhì)量意識(shí)、責(zé)任意識(shí)、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會(huì)影響檢測(cè)的效果；
2.設(shè)備因素： 比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測(cè)和維護(hù)，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對(duì)加工設(shè)備進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)等，都會(huì)一定程度上影響檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
3.樣品試樣因素：比如待測(cè)試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常，標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠，組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測(cè)效果的關(guān)鍵因素。
4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達(dá)標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化過(guò)程及效果是否高效，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴(yán)格等等，都一定程度上影響著檢測(cè)效果。
5.環(huán)境因素：比如檢測(cè)所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測(cè)要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測(cè)環(huán)境，才能為檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。

SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術(shù) 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng)，儀器性能更穩(wěn)定，服務(wù)期限更長(zhǎng)久。海量的譜線使分析不再受限，曲線分段跳轉(zhuǎn)，同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無(wú)縫銜接，拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確，可以在用戶現(xiàn)場(chǎng)任意增加分析基體和分析元素而無(wú)需增加硬件，維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料；網(wǎng)口采集傳輸，速度快，通用性更強(qiáng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
Spark 6000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術(shù)優(yōu)勢(shì)
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵，刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍：130-640nm
?色散率： 一級(jí)色散率：0.74nm/mm；二級(jí)色散率：0.37nm/mm
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測(cè)通道
?檢測(cè)器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測(cè)器
?單片 CCD 3648 個(gè)像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達(dá) 50kg
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái)，采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥，易于更換，且可以避免由日常維護(hù)而引起的強(qiáng)度下降
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特，保證放電在條件下進(jìn)行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件，控制并顯示光室真空度，顯示火花臺(tái)、光室溫度。
?操作簡(jiǎn)單快捷，便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護(hù)
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預(yù)火花技術(shù)，達(dá) 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式，數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定，對(duì)電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式，提高軟件的穩(wěn)定性，數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室，熱膨脹系數(shù)極低，儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設(shè)備控制
?全新的真空泵隔離閥，穩(wěn)定可靠
?真空光學(xué)系統(tǒng)，免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3，用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算
?全中文分析軟件，方便用戶操作
?自主開(kāi)發(fā)的爐料自動(dòng)配比軟件，根據(jù)測(cè)試結(jié)果自動(dòng)生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要，可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h(yuǎn)程終端或打印機(jī)，進(jìn) 行在線分析、遠(yuǎn)程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點(diǎn)
?采用多個(gè) CCD 對(duì)可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料
?分析應(yīng)用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制
?單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?網(wǎng)口 采集，通用性更強(qiáng)
?.真空泵隔離閥，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3

光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中，可以見(jiàn)到各種不同的，如紅、黃、蘭、白色光。太陽(yáng)光經(jīng)三棱鏡后，會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭，紫排列的色帶，還有人們?nèi)庋鬯床灰?jiàn)的光如紫外線，紅外線，γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間，這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講，各種電磁輻射都屬于光譜，一般按其波長(zhǎng)可分為：
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為：
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200～380nm
可見(jiàn)光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注：1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng)，大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言，從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的，通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線，就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種，因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜，稱原子光譜，如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的，通常呈帶狀分布，是分子光譜產(chǎn)生，如在光譜分析中采用炭電極，在高溫時(shí)，炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子，當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜，稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的，是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來(lái)的，所以連續(xù)光譜是無(wú)限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析，一般是指“原子發(fā)射光譜分析”，光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見(jiàn)光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120．0nm，因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來(lái)分析鋼中的重要元素。

由中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)主辦的北京第分析測(cè)試學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)及展覽會(huì)（BCEIA2019）在國(guó)家會(huì)議中心隆重召開(kāi)。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：鋼研納克）分析儀器、檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、能力驗(yàn)證業(yè)務(wù)分三個(gè)展區(qū)亮相本次展會(huì)。
在本次展會(huì)上，鋼研納克攜國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)產(chǎn)品“電感耦合等離子體光譜儀、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀”以及全新一代SparkCCD7000全譜火花直讀光譜儀參展，受到業(yè)內(nèi)的高度關(guān)注。大會(huì)程津培院士在中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英的陪同下參觀鋼研納克展臺(tái)，并就國(guó)產(chǎn)分析儀器的發(fā)展提出了指導(dǎo)性的建議。