PlasmaMS 300在環(huán)境領(lǐng)域的應(yīng)用
在環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來增長快的應(yīng)用技術(shù) 手段。 該應(yīng)用的關(guān)鍵是：根據(jù)相關(guān)法規(guī)，必須對(duì)水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質(zhì)中的一 系列元素進(jìn)行檢測(cè)，并且這些元素含量都在接近ppb級(jí)別。
在環(huán)境行業(yè)應(yīng)用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測(cè)之前對(duì)樣品基體進(jìn)行分離。
分離技術(shù)近幾年在環(huán)境樣品分析中運(yùn)用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標(biāo)元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯(lián)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
自來水檢測(cè)和水污染監(jiān)測(cè) 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測(cè)定
環(huán)境污染物中同位素識(shí)別和定量

ICP-MS的標(biāo)準(zhǔn)加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學(xué)干擾導(dǎo)致的。 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法時(shí)： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預(yù)制的分析樣品中；
2.然后對(duì)這些包含了標(biāo)準(zhǔn)加入物的樣品進(jìn)行再測(cè)定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實(shí)驗(yàn)空白(即未加標(biāo)樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標(biāo)準(zhǔn)加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標(biāo)準(zhǔn)加入法避免了配置標(biāo)準(zhǔn)曲線，相當(dāng)于進(jìn)行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標(biāo)樣完全一致，則相當(dāng)于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標(biāo)曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測(cè)定。
基體效應(yīng)以外的干擾并不能通過標(biāo)準(zhǔn)加入法消除，但是可以通過空白扣減來消除，前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。

鋼研納克:檢測(cè)行業(yè)國家隊(duì)，新材料國資改革核電大飛機(jī)高鐵一帶一路網(wǎng)絡(luò)教育諸多概念于一身
公司是專業(yè)從事金屬材料檢測(cè)技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務(wù)或產(chǎn)品包括第三方檢測(cè)服務(wù)、檢測(cè)分析儀器、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品、能力驗(yàn)證服務(wù)、腐蝕防護(hù)工程與產(chǎn)品，以及其他檢測(cè)延伸服務(wù)。公司服務(wù)和產(chǎn)品主要應(yīng)用于鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械、航空航天、高鐵、核電、汽車、新材料、環(huán)境、食品、石化等領(lǐng)域。 公司是國內(nèi)鋼鐵行業(yè)的檢測(cè)機(jī)構(gòu)，也是國內(nèi)金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域業(yè)務(wù)門類齊全、綜合實(shí)力的測(cè)試研究機(jī)構(gòu)之一。公司擁有“國家鋼鐵材料測(cè)試中心”、“國家鋼鐵產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心”、“國家冶金工業(yè)鋼材無損檢測(cè)中心”三個(gè)檢測(cè)中心和“國家新材料測(cè)試評(píng)價(jià)平臺(tái)——鋼鐵行業(yè)中心”、“金屬新材料檢測(cè)與表征裝備國家地方聯(lián)合工程實(shí)驗(yàn)室”、“工業(yè)（特殊鋼）產(chǎn)品質(zhì)量控制和技術(shù)評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)室”三個(gè)科技創(chuàng)新平臺(tái)。公司或子公司是中國新材料測(cè)試評(píng)價(jià)聯(lián)盟發(fā)起單位與副理事長單位、北京材料分析測(cè)試服務(wù)聯(lián)盟發(fā)起單位、中關(guān)村材料試驗(yàn)技術(shù)聯(lián)盟（CSTM）理事單位、中國分析測(cè)試協(xié)會(huì)理事單位、中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)分析儀器分會(huì)理事單位、CNAS實(shí)驗(yàn)室專門會(huì)能力驗(yàn)證專業(yè)會(huì)秘書處、CUPT能力驗(yàn)證聯(lián)盟理事長單位等。公司控股股東為中國鋼研科技集團(tuán)有限公司。中國鋼研是直接管轄的企業(yè)，是我國金屬新材料研發(fā)基地、冶金行業(yè)重大關(guān)鍵與共性技術(shù)的創(chuàng)新基地。中國鋼研（含下屬單位）承擔(dān)了大量國家重大項(xiàng)目和課題，為國家重大工程需求以及石化、電力、冶金、船舶、航空航天、機(jī)械等行業(yè)的用戶提供了技術(shù)解決方案、技術(shù)服務(wù)和相關(guān)產(chǎn)品。截至2019年末公司擁有博士研究生23人、碩士研究生205人，研究生學(xué)歷占比超過30%，本科以上學(xué)歷占比超過75%。公司正在打造一支以科學(xué)家王海舟院士為首的具有國際競爭力的科研和技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)。公司是我國金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域的先行者。公司及子公司牽頭制修訂7項(xiàng)國際標(biāo)準(zhǔn)、參與制修訂國際標(biāo)準(zhǔn)20余項(xiàng)、制定170余項(xiàng)國家及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；公司研制檢測(cè)用的和行業(yè)級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品共700多種，其中標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品300多種。公司充分發(fā)揮技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢(shì)，承擔(dān)了大量的國家重大課題，近五年承擔(dān)的國家科學(xué)技術(shù)部、工業(yè)和信息化部、、中國工程院及國家自然科學(xué)基金委等項(xiàng)目達(dá)29項(xiàng)。同時(shí)，公司檢測(cè)技術(shù)及其產(chǎn)品多次獲得、省部級(jí)重大獎(jiǎng)項(xiàng)，如國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、山東省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、全國稀土標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)優(yōu)秀獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)、國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)等。截至2019年上半年，公司擁有專利136項(xiàng)，其中發(fā)明專利66項(xiàng)，擁有軟件著作權(quán)41項(xiàng)。公司的技術(shù)力量雄厚，國際互認(rèn)度高。公司擁有國內(nèi)通過美國國家航空航天和國防供應(yīng)商認(rèn)可（NADCAP）的材料檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室，并取得了英國羅爾斯羅伊斯（Rolls-Royce）、美國霍尼韋爾（Honeywell）、福特汽車公司（Ford）、中國商用飛機(jī)有限責(zé)任公司等眾多知名公司的供應(yīng)商認(rèn)證。公司在高速鐵路、商用飛機(jī)、航空航天工程、核電工業(yè)以及北京等國家重大工程、重點(diǎn)項(xiàng)目中承擔(dān)了材料檢測(cè)等攻堅(jiān)任務(wù)，擁有豐富的工業(yè)領(lǐng)域知識(shí)；如：2011年至2012年公司曾受和中國工程院委托負(fù)責(zé)對(duì)中國高鐵車輪及無縫線路進(jìn)行全面質(zhì)量評(píng)價(jià)；2016年公司完成了中國石化大型能源項(xiàng)目“新粵浙”新疆煤制天然氣外輸管道工程X80管線鋼第三方評(píng)價(jià)任務(wù)；公司還在大飛機(jī)用鋼鐵材料檢測(cè)占據(jù)重要位置，成為大型客機(jī)用鋼鐵類材料的適航認(rèn)證的重要承擔(dān)單位，與中國商用飛機(jī)有限責(zé)任公司和中航商用航空發(fā)動(dòng)機(jī)有限責(zé)任公司建立了密切的合作關(guān)系。

PlasmaMS的質(zhì)譜干擾消除辦法
PlasmaMS 300的另一類主要干擾是質(zhì)譜干擾。
1.多原子干擾(Polyatomic) – 與目標(biāo)同位素原子質(zhì)量重合的多原子離子，所帶來的干擾
2. 同量異位素干擾(Isobaric) –與目標(biāo)同位素原子具有相同質(zhì)量數(shù)的原子帶來的干擾(目標(biāo) 原子與干擾原子的質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)都不同，但(質(zhì)子數(shù)+中子數(shù))相同)；也包括質(zhì)荷比相等 的不同元素離子形成的干擾。
多原子離子： 包括氬化合物、氫化物、氧化物
氬化合物的產(chǎn)率可以通過性能選項(xiàng)來降低：例如使用等離子體屏蔽環(huán)(PlasmaScreen)和 碰撞反應(yīng)池(CCT, Collision Cell Technology)。
這些干擾有時(shí)是氣體引起的：例如進(jìn)樣時(shí)候引入的空氣、用來維持等離子體燃燒的氬氣。 還有的來自于樣品基體中的陰離子或者陽離子。
氧化物的產(chǎn)率可以通過調(diào)諧來降低：炬管和霧化器的位置、氣體流速對(duì)氧化物產(chǎn)率的影響 是的。基體引起的干擾很多都是氧化物，尤其是樣品中的主量元素，會(huì)在距離主量元 素16個(gè)amu的位置產(chǎn)生一個(gè)氧化物的干擾峰。這樣的干擾普遍存在，并且隨著基體氧化 物沸點(diǎn)的升高，這樣的干擾更加嚴(yán)重。我們可以使用空白扣減來降低這樣的干擾。
同量異位素干擾: 這種干擾指的是，存在著和目標(biāo)元素原子質(zhì)量相同的干擾離子。要消除同量異位素干擾， 只能是盡可能選擇該元素的其它同位素來回避這樣的干擾。
還有一類特殊的同質(zhì)量干擾，如果干擾元素的二級(jí)電離電位(Isobaric interference)低于了 氬原子的一級(jí)電離電位(15.8ev)，這樣的元素原子在ICP中會(huì)形成雙電荷離子。對(duì)于雙電 荷離子的干擾，很難消除，但有的時(shí)候可以通過調(diào)諧來將干擾降低一些。如果可以的話， 通過更換更合適的同位素來解決。
如果用戶的目標(biāo)元素是單同位素元素時(shí)，例如As，此時(shí)就不能采用更換同位素的辦法來 避免干擾。As元素是比較典型的單同位素元素，同時(shí)面臨著普遍的多原子干擾(40Ar 35Cl)，一旦有氯元素的存在，就存在40Ar 35Cl的干擾。