快速熱處理爐

產(chǎn)品簡介

    高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱，設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

    它提高了加熱試驗?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，高溫快速爐/紅外鏡面反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全新的溫度控制操作！

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反射鏡是具有高稍度曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

溫度高精/度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精/確控制樣品的溫度（遠(yuǎn)比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精/度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單支持遠(yuǎn)程協(xié)助系統(tǒng)，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

用途：工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。

應(yīng)用范圍： 
1. 電子材料 
◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻） 
◆熱源薄膜形成 
◆激活離子注入后 
◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機(jī)材料 
◆陶瓷基板退火爐 
◆玻璃基板退火爐。 
◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料 
◆薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。 
◆爐焊接模擬 
◆高真空熱處理（1000°C以下） 
◆大氣氣體熔化過程 
◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4. 復(fù)合材料 
◆耐熱性評價爐 
◆無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐

5. 其它 
◆高溫拉伸壓縮試驗爐。 
◆分段分區(qū)控制爐 
◆溫度梯度爐 
◆爐氣分析 
◆超導(dǎo)陶瓷退火爐