光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中，可以見(jiàn)到各種不同的，如紅、黃、蘭、白色光。太陽(yáng)光經(jīng)三棱鏡后，會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭，紫排列的色帶，還有人們?nèi)庋鬯床灰?jiàn)的光如紫外線，紅外線，γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間，這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講，各種電磁輻射都屬于光譜，一般按其波長(zhǎng)可分為：
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為：
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200～380nm
可見(jiàn)光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注：1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng)，大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言，從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的，通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線，就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種，因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜，稱原子光譜，如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的，通常呈帶狀分布，是分子光譜產(chǎn)生，如在光譜分析中采用炭電極，在高溫時(shí)，炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子，當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜，稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的，是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來(lái)的，所以連續(xù)光譜是無(wú)限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析，一般是指“原子發(fā)射光譜分析”，光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見(jiàn)光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120．0nm，因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來(lái)分析鋼中的重要元素。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。

SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術(shù) 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng)，儀器性能更穩(wěn)定，服務(wù)期限更長(zhǎng)久。海量的譜線使分析不再受限，曲線分段跳轉(zhuǎn)，同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無(wú)縫銜接，拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確，可以在用戶現(xiàn)場(chǎng)任意增加分析基體和分析元素而無(wú)需增加硬件，維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料；網(wǎng)口采集傳輸，速度快，通用性更強(qiáng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
Spark 6000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術(shù)優(yōu)勢(shì)
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵，刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍：130-640nm
?色散率： 一級(jí)色散率：0.74nm/mm；二級(jí)色散率：0.37nm/mm
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測(cè)通道
?檢測(cè)器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測(cè)器
?單片 CCD 3648 個(gè)像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達(dá) 50kg
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái)，采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥，易于更換，且可以避免由日常維護(hù)而引起的強(qiáng)度下降
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特，保證放電在條件下進(jìn)行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件，控制并顯示光室真空度，顯示火花臺(tái)、光室溫度。
?操作簡(jiǎn)單快捷，便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護(hù)
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預(yù)火花技術(shù)，達(dá) 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式，數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定，對(duì)電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式，提高軟件的穩(wěn)定性，數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室，熱膨脹系數(shù)極低，儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設(shè)備控制
?全新的真空泵隔離閥，穩(wěn)定可靠
?真空光學(xué)系統(tǒng)，免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3，用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算
?全中文分析軟件，方便用戶操作
?自主開(kāi)發(fā)的爐料自動(dòng)配比軟件，根據(jù)測(cè)試結(jié)果自動(dòng)生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要，可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h(yuǎn)程終端或打印機(jī)，進(jìn) 行在線分析、遠(yuǎn)程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點(diǎn)
?采用多個(gè) CCD 對(duì)可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料
?分析應(yīng)用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制
?單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?網(wǎng)口 采集，通用性更強(qiáng)
?.真空泵隔離閥，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3

直讀光譜實(shí)驗(yàn)室安裝條件要達(dá)標(biāo)。
①實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對(duì)濕度控制在20%-80%，確保無(wú)腐蝕性氣體。
②氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強(qiáng)值，分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
③輸入實(shí)驗(yàn)室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動(dòng)范圍控制在－5%～＋5%以內(nèi)。
做好樣品分析準(zhǔn)備。 設(shè)備和PC電源電壓選擇開(kāi)關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷海^(guò)濾灌水量要在三分之一，氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開(kāi)后少穩(wěn)定一個(gè)小時(shí)。激發(fā)試樣看激發(fā)點(diǎn)是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。
正確進(jìn)行樣品分析。
認(rèn)真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無(wú)裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。
激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺(tái)激發(fā)3次，刪除異常點(diǎn)，留三組數(shù)據(jù)取平均值。
做好直讀光譜儀的維護(hù)保養(yǎng)。
要按時(shí)清潔儀器可見(jiàn)光透鏡和紫外光透鏡，定期檢查更換排氣瓶的水量，定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。
定期清潔火花臺(tái)，樣品激發(fā)的過(guò)程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺(tái)上，久而久之大量粉末沉積，降低兩電極之間的絕緣性能，影響激發(fā)效果。