ICP-AES發(fā)展趨勢：
1、 儀器小型化，臺式機(jī)。（光源小型化、光室小型化）
2、 波長范圍的拓寬。
3、 光學(xué)分辨率的提高。
4、 光源的穩(wěn)定性及減少氬氣消耗的新技術(shù)。
5、 更加高效穩(wěn)定的進(jìn)樣系統(tǒng)。
6、 軟件更加方便、智能。功能更加強(qiáng)大。

展望未來，鋼研納克在新的起點邁出更加堅實的步伐，攜手各界走向美好的明天！

ICP-MS與ICP-OES的區(qū)別？
1、容易使用度不同：
在日常工作中，從自動化來講，ICP-OES是成熟的，可由技術(shù)不熟練的人員來應(yīng)用ICP-OES專家制定的方法進(jìn)行工作。
ICP-MS的操作直到現(xiàn)在仍較為復(fù)雜，自1993年以來，盡管在計算機(jī)控制和智能化軟件方面有很大的進(jìn)步，但在常規(guī)分析前仍需由技術(shù)人員進(jìn)行精密調(diào)整，ICP-MS的方法研究也是很復(fù)雜及耗時的工作.

鋼研納克長期致力于全面、持續(xù)提升產(chǎn)品和服務(wù)品質(zhì)，為客戶實現(xiàn)全方位價值的化。