光電式直讀光譜儀 直讀光譜儀鋼鐵納克檢測技術(shù)股份有限公司
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光電式直讀光譜儀-直讀光譜儀鋼鐵納克檢測技術(shù)股份有限公司

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光學(xué)系統(tǒng) 帕邢 - 龍格架發(fā)
光柵焦距 750mm
刻線 2400 條 /mm
譜線范圍 170-500nm
一級色散率 0.55nm/mm
二級色散率 0.275nm/mm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
商品介紹
從事直讀光譜儀的這些年里,經(jīng)常會(huì)碰到客戶問:為什么直讀光譜儀需要配置標(biāo)準(zhǔn)樣品?直讀光譜儀不是直接測量產(chǎn)品就應(yīng)該很準(zhǔn)確的嗎?為什么還需要標(biāo)準(zhǔn)樣品去校準(zhǔn)?等等一系列問題。這些問題都涉及到標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),針對這些問題,想和大家分享一下關(guān)于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的知識。
在日常生產(chǎn)過程、實(shí)驗(yàn)研究、科學(xué)探索等各行各業(yè),其實(shí)我們都能見到人們運(yùn)用各種各樣的儀器儀表、測量用具。那么怎樣保證和衡量這些設(shè)備是否可靠精確的運(yùn)行,這其中必然會(huì)有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的參照物來做參考和對比,那么這個(gè)參照物也可以簡單的定義為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。
標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(RM)是具有一種或多種足夠均勻和很好的確定了特性,用以校準(zhǔn)測量裝置、評價(jià)測量方法或材料賦值的一種材料或物質(zhì)。 注:一種標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)可以是純的或者混合的氣體、液體或固體。
光電式直讀光譜儀,光譜儀直讀
直讀光譜實(shí)驗(yàn)室安裝條件要達(dá)標(biāo)。
①實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃,相對濕度控制在20%-80%,確保無腐蝕性氣體。
②氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上,不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果,降低元素的光強(qiáng)值,分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
③輸入實(shí)驗(yàn)室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上,輸出電壓接到直讀光譜儀器上,電源電壓波動(dòng)范圍控制在-5%~+5%以內(nèi)。
做好樣品分析準(zhǔn)備。 設(shè)備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?,過濾灌水量要在三分之一,氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個(gè)小時(shí)。激發(fā)試樣看激發(fā)點(diǎn)是否正常,做程序修正,觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。
正確進(jìn)行樣品分析。
認(rèn)真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后,激發(fā)面能密封住激發(fā)孔,樣品表面清潔,無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷,樣品和激發(fā)板不能漏氣。
激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺(tái)激發(fā)3次,刪除異常點(diǎn),留三組數(shù)據(jù)取平均值。
做好直讀光譜儀的維護(hù)保養(yǎng)。
要按時(shí)清潔儀器可見光透鏡和紫外光透鏡,定期檢查更換排氣瓶的水量,定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。
定期清潔火花臺(tái),樣品激發(fā)的過程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺(tái)上,久而久之大量粉末沉積,降低兩電極之間的絕緣性能,影響激發(fā)效果。
光電式直讀光譜儀,光譜儀直讀
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱,就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量,稱為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
光電式直讀光譜儀,光譜儀直讀
光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中,可以見到各種不同的,如紅、黃、蘭、白色光。太陽光經(jīng)三棱鏡后,會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭,紫排列的色帶,還有人們?nèi)庋鬯床灰姷墓馊缱贤饩€,紅外線,γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長是在100—12000*10-1nm之間,這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講,各種電磁輻射都屬于光譜,一般按其波長可分為:
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為:
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200~380nm
可見光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注:1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長,大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言,從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的,通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線,就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種,因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜,稱原子光譜,如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的,通常呈帶狀分布,是分子光譜產(chǎn)生,如在光譜分析中采用炭電極,在高溫時(shí),炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子,當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜,稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的,是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來的,所以連續(xù)光譜是無限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析,一般是指“原子發(fā)射光譜分析”,光電光譜分析中元素波長都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長范圍在近紫外區(qū)和可見光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120.0nm,因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來分析鋼中的重要元素。
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