光譜儀在分析的過程中，電火花燃燒樣品表面會(huì)產(chǎn)生金屬粉塵，大部分的金屬粉塵都會(huì)隨著氬氣吹掃排到過濾罐中，然而也會(huì)有少部分金屬粉塵會(huì)停留在激發(fā)室里，時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)堆積污染激發(fā)室和光學(xué)透鏡，引起測(cè)量數(shù)據(jù)波動(dòng)，誤差變大，所以需要定期的清理來改善激發(fā)室環(huán)境，改善測(cè)量數(shù)據(jù)。
光譜儀在使用的過程中，會(huì)有一部分金屬粉塵、金屬屑、灰塵掉落到儀器內(nèi)部電路模塊上，如果不及時(shí)清理可能會(huì)導(dǎo)致電路模塊短路，一些核心的電路板損壞維修費(fèi)用會(huì)很高，所以需要及時(shí)的清理儀器內(nèi)部灰塵，保證電路的正常運(yùn)行。
儀器使用年限長(zhǎng)了后，儀器內(nèi)部一些器件會(huì)發(fā)生老化，這部分器件需要及時(shí)的發(fā)現(xiàn)更換，否則會(huì)引起嚴(yán)重的光譜儀故障。
化驗(yàn)員在使用過程中可能會(huì)存在一些不規(guī)范的操作，這些操作可能會(huì)導(dǎo)致測(cè)試誤差，嚴(yán)重的誤操作也可能會(huì)導(dǎo)致光譜儀故障，的方式是能和專業(yè)的光譜工程師溝通交流，讓工程師發(fā)現(xiàn)化驗(yàn)員的不規(guī)范操作，及時(shí)糾正，確保儀器的正常使用。

鋼研納克直讀光譜儀源于中國(guó)冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)“鋼鐵研究總院”，具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)，金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者，直讀光譜儀國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位。鋼研納克擁有國(guó)內(nèi)強(qiáng)大的光譜儀產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、售后服務(wù)力量，生產(chǎn)出了“國(guó)產(chǎn)好儀器”火花直讀光譜儀Lab Spark系列，世界首創(chuàng)的OPA金屬原位分析儀系列，直讀光譜儀的領(lǐng)跑者SparkCCD系列，系列產(chǎn)品獲得了廣大用戶的認(rèn)可，在中國(guó)累計(jì)銷售4000余臺(tái)，是中國(guó)金屬材料光譜分析領(lǐng)域的引領(lǐng)者。
鋼研納克直讀光譜儀系列產(chǎn)品多次獲得、省部級(jí)重大獎(jiǎng)項(xiàng)，如國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)（金屬原位分析儀）、兩次榮獲中國(guó)分析儀器獎(jiǎng)項(xiàng)“BCEIA”金獎(jiǎng)，山東省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)，中國(guó)儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)。
在以院士為首的研發(fā)團(tuán)隊(duì)帶領(lǐng)下，鋼研納克充分發(fā)揮技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢(shì)，承擔(dān)了大量的國(guó)家重大課題，包括國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目、工程院咨詢項(xiàng)目、工信部工業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)（中國(guó)制造2025）資金項(xiàng)目、國(guó)家自然基金項(xiàng)目等。同時(shí)，公司檢測(cè)技術(shù)及其產(chǎn)品多次獲得、省部級(jí)重大獎(jiǎng)項(xiàng)，如國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、中國(guó)儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)、國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)等。公司擁有專利130余項(xiàng)，擁有軟件著作權(quán)40余項(xiàng)。

光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中，可以見到各種不同的，如紅、黃、蘭、白色光。太陽光經(jīng)三棱鏡后，會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭，紫排列的色帶，還有人們?nèi)庋鬯床灰姷墓馊缱贤饩€，紅外線，γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間，這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講，各種電磁輻射都屬于光譜，一般按其波長(zhǎng)可分為：
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為：
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200～380nm
可見光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注：1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng)，大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言，從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的，通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線，就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種，因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜，稱原子光譜，如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的，通常呈帶狀分布，是分子光譜產(chǎn)生，如在光譜分析中采用炭電極，在高溫時(shí)，炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子，當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜，稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的，是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來的，所以連續(xù)光譜是無限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析，一般是指“原子發(fā)射光譜分析”，光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120．0nm，因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來分析鋼中的重要元素。

干擾效應(yīng)。 干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng)，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強(qiáng)度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個(gè)問題。
分析試樣和標(biāo)樣影響。 在實(shí)際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測(cè)分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)保持一致，對(duì)試樣的分析結(jié)果進(jìn)行精確的控制。
取樣方法影響。 取樣方法和對(duì)樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準(zhǔn)確度的重要而關(guān)鍵的因素。爐前分析時(shí)要對(duì)爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進(jìn)行，如果檢測(cè)的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問題，要重新進(jìn)行取樣檢測(cè)。對(duì)于低碳鋼材料要將其置入流水中進(jìn)行驟降溫處理，確保樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體，從而有效提升碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。但要引起注意的是，對(duì)于高碳樣品進(jìn)行切割后，不能采取驟降溫的方式進(jìn)行處理，防止因?yàn)轶E降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外，對(duì)于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測(cè)和分析，要確保所檢測(cè)的樣品進(jìn)行白口化，并確保取樣的溫度、脫模時(shí)間、冷卻速度標(biāo)準(zhǔn)和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測(cè)分析，要選擇適合的研磨工具，通常使用氧化鋁砂輪片進(jìn)行打磨，要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài)，不能太粗或太細(xì)。需要強(qiáng)調(diào)的是，試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米，除去樣品表面的氧化層，防止檢測(cè)結(jié)果的不準(zhǔn)確，氧化層對(duì)碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性影響更大。
其它因素影響。 光電光譜檢測(cè)分析存在的誤差在所難免，要正確的認(rèn)識(shí)誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測(cè)分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：
1.人的因素： 操作者的質(zhì)量意識(shí)、責(zé)任意識(shí)、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會(huì)影響檢測(cè)的效果；
2.設(shè)備因素： 比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測(cè)和維護(hù)，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對(duì)加工設(shè)備進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)等，都會(huì)一定程度上影響檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
3.樣品試樣因素：比如待測(cè)試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常，標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠，組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測(cè)效果的關(guān)鍵因素。
4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達(dá)標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化過程及效果是否高效，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴(yán)格等等，都一定程度上影響著檢測(cè)效果。
5.環(huán)境因素：比如檢測(cè)所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測(cè)要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測(cè)環(huán)境，才能為檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。