鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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電感耦合等離子體質(zhì)譜類型
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icp直讀光譜儀 鋼研納克單道ICP 35年方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn) 鋼研納克 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
北京市
商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
測(cè)試范圍 2-255amu
功率 600-1600W連續(xù)可調(diào)
測(cè)量精度 0.5-1.1amu連續(xù)可調(diào)
型號(hào) PlasmaMS 300
矩管材質(zhì) 石英
生產(chǎn)廠家 鋼研納克
商品介紹
PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應(yīng)用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下,激光消融幾乎不需要任何樣品制備,僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中,樣品多種多樣,質(zhì)譜分布范圍很廣,因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個(gè)礦物或樣品(minerals or phases)中,可能既需要分析痕量金屬含量,又需要進(jìn)行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements),因此在這類地質(zhì)樣品中 常見(jiàn)的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來(lái)物質(zhì)的原始和進(jìn)化 水沉積物和地下水
PlasmaMS 300 內(nèi)標(biāo)元素的選擇
內(nèi)標(biāo)元素的使用可以用來(lái)校正多樣品測(cè)定的過(guò)程中,信號(hào)隨著時(shí)間發(fā)生的漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化(例如粘度等)都會(huì)造成信號(hào)的漂移。
對(duì)于任何的多元素分析,我們都推薦用戶至少使用一個(gè)內(nèi)標(biāo)元素。如果待測(cè)元素的質(zhì)量分 布從低到高都有,應(yīng)當(dāng)至少使用3個(gè)內(nèi)標(biāo)元素,分別檢測(cè)低質(zhì)量、中質(zhì)量、高質(zhì)量區(qū)段的 同位素信號(hào)漂移。
選擇什么同位素作為內(nèi)標(biāo)元素需要根據(jù)您的方法中的待測(cè)目標(biāo)同位素來(lái)決定。當(dāng)需要為您 方法中的各個(gè)目標(biāo)同位素分配內(nèi)標(biāo)同位素的時(shí)候,可以考慮一下幾個(gè)因素:
1.首先考慮的,也是重要的一個(gè)因素就是:用作內(nèi)標(biāo)的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)當(dāng)精準(zhǔn)地添加到每一個(gè)單溶液里。一般我們可以單獨(dú)配置內(nèi)標(biāo)元素 溶液,然后在分析的時(shí)候進(jìn)行在線添加,可以保證添加的精準(zhǔn)性。內(nèi)標(biāo)元素的信號(hào)強(qiáng)度會(huì) 做為參比,由軟件來(lái)對(duì)每個(gè)單溶液進(jìn)樣時(shí)發(fā)生的信號(hào)抑制或增強(qiáng)進(jìn)行計(jì)算和校正。如果您 的樣品中含有內(nèi)標(biāo)元素,則內(nèi)標(biāo)信號(hào)會(huì)發(fā)生額外的不規(guī)則的信號(hào)增強(qiáng),造成軟件校正后的 目標(biāo)元素濃度比實(shí)際濃度偏低。
2.其次,內(nèi)標(biāo)元素的質(zhì)量數(shù)能和目標(biāo)元素比較接近,建議內(nèi)標(biāo)同位素和目標(biāo)元素同位 素之間的質(zhì)量差不要超過(guò)50amu。
3.為了確保內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致,內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素 的電離電位比較接近。
當(dāng)使用內(nèi)標(biāo)元素校正的時(shí)候,有兩種校正方式是可以供選擇的:
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法:任何分析元素同位素峰均能以任一內(nèi)標(biāo)元素同位素峰作為參照。目標(biāo)元素峰不需 要為內(nèi)標(biāo)元素附近的峰。當(dāng)使用參考法的時(shí)候,以校正空白(calibration blank)的內(nèi)標(biāo)響應(yīng) 值作為100%,通過(guò)計(jì)算樣品中內(nèi)標(biāo)元素的回收率,來(lái)校正進(jìn)樣過(guò)程中的信號(hào)漂移。
樣品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率(相對(duì)于calibration blank中的100%而產(chǎn)生的偏離)會(huì)被用作校 正因子來(lái)校正目標(biāo)同位素的數(shù)據(jù)(每種目標(biāo)同位素所使用的內(nèi)標(biāo)同位素都應(yīng)是其在方法中 選擇的用來(lái)參考的那一個(gè)內(nèi)標(biāo)同位素)
插補(bǔ)法:內(nèi)標(biāo)對(duì)測(cè)試峰的影響與兩者質(zhì)量數(shù)的接近程度有關(guān)。一個(gè)分析元素若置于兩內(nèi)標(biāo) 物中間,可依據(jù)每個(gè) amu 基數(shù)進(jìn)行計(jì)算因素的校正。
首先:
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質(zhì)量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認(rèn)為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如:
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認(rèn)為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質(zhì)量變化相關(guān)的抑制(質(zhì)量數(shù)越大,受
到抑制越強(qiáng)),距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質(zhì)量數(shù)的元素, Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測(cè)量時(shí),設(shè)置了一系列覆蓋質(zhì)量數(shù)區(qū)間的內(nèi)標(biāo)元素,計(jì)算樣 品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率:
6Li 45Sc 115In 209Bi
因?yàn)樗械哪繕?biāo)元素濃度都需要使用內(nèi)標(biāo)回收率來(lái)進(jìn)行校正,建議用戶將內(nèi)標(biāo)元素的濃度 控制在一個(gè)合理范圍,來(lái)降低內(nèi)標(biāo)的%RSD,一般說(shuō)來(lái)我們建議內(nèi)標(biāo)元素的
icps >100,000。
PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度:15℃~26℃,室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過(guò)3攝氏度,推薦室溫22℃;
2) 相對(duì)濕度:20~60%,無(wú)冷凝。濕度大的地區(qū)請(qǐng)配備除濕機(jī);
3) Ar純度>99.996%,配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ恚雰x器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa,氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min;如果選配了He碰撞氣,請(qǐng)準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè),減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa,減壓閥后端接4mm管適配器,He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源:總供電三相五線(3相線,零線,地線),額定電流40A以上;主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電,需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開(kāi)關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h,在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請(qǐng)注意,這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求),建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥,以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無(wú)煙,無(wú)腐蝕性的環(huán)境下,無(wú)振動(dòng),不受陽(yáng)光直射,遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品;
7) 接地良好(接地電阻≤4Ω)。
鋼研納克同時(shí)也是全球知名的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)提供商,都提供標(biāo)樣,很多是以混標(biāo)的形式包含了用戶要求濃度的多種元素,可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購(gòu)買單標(biāo)---10,000/1,000 ppm的單標(biāo)母液。
但是,考慮到各個(gè)元素自身的物理化學(xué)特性,以及它們?cè)谒嶂械姆€(wěn)定性,或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性,在配置混標(biāo)的過(guò)程中必須格外小心。
當(dāng)配置自用的復(fù)合標(biāo)準(zhǔn)品時(shí),應(yīng)注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達(dá)到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產(chǎn)生相互反應(yīng)的元素否則可能產(chǎn)生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中,請(qǐng)確認(rèn)您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作,一 般超純水的電阻率應(yīng)該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過(guò)程中使用的試劑例如酸試劑,也應(yīng)該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的(例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP),盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中,盡量減少稀釋步驟。
? 應(yīng)當(dāng)使用經(jīng)過(guò)校準(zhǔn)的微量移液器(例如移液),并且使用一次性塑料頭。
? 應(yīng)當(dāng)在通風(fēng)櫥里面進(jìn)行制備,以盡量避免空氣流通帶來(lái)的污染。
? 為了得到的檢出限,凡是在制備過(guò)程中會(huì)與標(biāo)樣或者樣品接觸的容器和 器具都應(yīng)當(dāng)在使用前經(jīng)過(guò)酸液浸泡。
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下,激光消融幾乎不需要任何樣品制備,僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中,樣品多種多樣,質(zhì)譜分布范圍很廣,因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個(gè)礦物或樣品(minerals or phases)中,可能既需要分析痕量金屬含量,又需要進(jìn)行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements),因此在這類地質(zhì)樣品中 常見(jiàn)的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來(lái)物質(zhì)的原始和進(jìn)化 水沉積物和地下水
PlasmaMS 300 內(nèi)標(biāo)元素的選擇
內(nèi)標(biāo)元素的使用可以用來(lái)校正多樣品測(cè)定的過(guò)程中,信號(hào)隨著時(shí)間發(fā)生的漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化(例如粘度等)都會(huì)造成信號(hào)的漂移。
對(duì)于任何的多元素分析,我們都推薦用戶至少使用一個(gè)內(nèi)標(biāo)元素。如果待測(cè)元素的質(zhì)量分 布從低到高都有,應(yīng)當(dāng)至少使用3個(gè)內(nèi)標(biāo)元素,分別檢測(cè)低質(zhì)量、中質(zhì)量、高質(zhì)量區(qū)段的 同位素信號(hào)漂移。
選擇什么同位素作為內(nèi)標(biāo)元素需要根據(jù)您的方法中的待測(cè)目標(biāo)同位素來(lái)決定。當(dāng)需要為您 方法中的各個(gè)目標(biāo)同位素分配內(nèi)標(biāo)同位素的時(shí)候,可以考慮一下幾個(gè)因素:
1.首先考慮的,也是重要的一個(gè)因素就是:用作內(nèi)標(biāo)的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)當(dāng)精準(zhǔn)地添加到每一個(gè)單溶液里。一般我們可以單獨(dú)配置內(nèi)標(biāo)元素 溶液,然后在分析的時(shí)候進(jìn)行在線添加,可以保證添加的精準(zhǔn)性。內(nèi)標(biāo)元素的信號(hào)強(qiáng)度會(huì) 做為參比,由軟件來(lái)對(duì)每個(gè)單溶液進(jìn)樣時(shí)發(fā)生的信號(hào)抑制或增強(qiáng)進(jìn)行計(jì)算和校正。如果您 的樣品中含有內(nèi)標(biāo)元素,則內(nèi)標(biāo)信號(hào)會(huì)發(fā)生額外的不規(guī)則的信號(hào)增強(qiáng),造成軟件校正后的 目標(biāo)元素濃度比實(shí)際濃度偏低。
2.其次,內(nèi)標(biāo)元素的質(zhì)量數(shù)能和目標(biāo)元素比較接近,建議內(nèi)標(biāo)同位素和目標(biāo)元素同位 素之間的質(zhì)量差不要超過(guò)50amu。
3.為了確保內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致,內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素 的電離電位比較接近。
當(dāng)使用內(nèi)標(biāo)元素校正的時(shí)候,有兩種校正方式是可以供選擇的:
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法:任何分析元素同位素峰均能以任一內(nèi)標(biāo)元素同位素峰作為參照。目標(biāo)元素峰不需 要為內(nèi)標(biāo)元素附近的峰。當(dāng)使用參考法的時(shí)候,以校正空白(calibration blank)的內(nèi)標(biāo)響應(yīng) 值作為100%,通過(guò)計(jì)算樣品中內(nèi)標(biāo)元素的回收率,來(lái)校正進(jìn)樣過(guò)程中的信號(hào)漂移。
樣品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率(相對(duì)于calibration blank中的100%而產(chǎn)生的偏離)會(huì)被用作校 正因子來(lái)校正目標(biāo)同位素的數(shù)據(jù)(每種目標(biāo)同位素所使用的內(nèi)標(biāo)同位素都應(yīng)是其在方法中 選擇的用來(lái)參考的那一個(gè)內(nèi)標(biāo)同位素)
插補(bǔ)法:內(nèi)標(biāo)對(duì)測(cè)試峰的影響與兩者質(zhì)量數(shù)的接近程度有關(guān)。一個(gè)分析元素若置于兩內(nèi)標(biāo) 物中間,可依據(jù)每個(gè) amu 基數(shù)進(jìn)行計(jì)算因素的校正。
首先:
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質(zhì)量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認(rèn)為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如:
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認(rèn)為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質(zhì)量變化相關(guān)的抑制(質(zhì)量數(shù)越大,受
到抑制越強(qiáng)),距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質(zhì)量數(shù)的元素, Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測(cè)量時(shí),設(shè)置了一系列覆蓋質(zhì)量數(shù)區(qū)間的內(nèi)標(biāo)元素,計(jì)算樣 品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率:
6Li 45Sc 115In 209Bi
因?yàn)樗械哪繕?biāo)元素濃度都需要使用內(nèi)標(biāo)回收率來(lái)進(jìn)行校正,建議用戶將內(nèi)標(biāo)元素的濃度 控制在一個(gè)合理范圍,來(lái)降低內(nèi)標(biāo)的%RSD,一般說(shuō)來(lái)我們建議內(nèi)標(biāo)元素的
icps >100,000。
PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度:15℃~26℃,室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過(guò)3攝氏度,推薦室溫22℃;
2) 相對(duì)濕度:20~60%,無(wú)冷凝。濕度大的地區(qū)請(qǐng)配備除濕機(jī);
3) Ar純度>99.996%,配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ恚雰x器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa,氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min;如果選配了He碰撞氣,請(qǐng)準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè),減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa,減壓閥后端接4mm管適配器,He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源:總供電三相五線(3相線,零線,地線),額定電流40A以上;主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電,需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開(kāi)關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h,在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請(qǐng)注意,這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求),建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥,以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無(wú)煙,無(wú)腐蝕性的環(huán)境下,無(wú)振動(dòng),不受陽(yáng)光直射,遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品;
7) 接地良好(接地電阻≤4Ω)。
鋼研納克同時(shí)也是全球知名的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)提供商,都提供標(biāo)樣,很多是以混標(biāo)的形式包含了用戶要求濃度的多種元素,可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購(gòu)買單標(biāo)---10,000/1,000 ppm的單標(biāo)母液。
但是,考慮到各個(gè)元素自身的物理化學(xué)特性,以及它們?cè)谒嶂械姆€(wěn)定性,或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性,在配置混標(biāo)的過(guò)程中必須格外小心。
當(dāng)配置自用的復(fù)合標(biāo)準(zhǔn)品時(shí),應(yīng)注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達(dá)到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產(chǎn)生相互反應(yīng)的元素否則可能產(chǎn)生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中,請(qǐng)確認(rèn)您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作,一 般超純水的電阻率應(yīng)該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過(guò)程中使用的試劑例如酸試劑,也應(yīng)該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的(例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP),盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中,盡量減少稀釋步驟。
? 應(yīng)當(dāng)使用經(jīng)過(guò)校準(zhǔn)的微量移液器(例如移液),并且使用一次性塑料頭。
? 應(yīng)當(dāng)在通風(fēng)櫥里面進(jìn)行制備,以盡量避免空氣流通帶來(lái)的污染。
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icp直讀光譜儀 鋼研納克單道ICP 35年方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn) 鋼研納克 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
北京市
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