光譜儀化驗(yàn)
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像素?cái)?shù) 3648+46
像素尺寸 8μm
光柵焦距 500mm
刻線 2700 條 /mm
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍 130-800nm
商品介紹
帕型-龍格結(jié)構(gòu)一種光柵分光系統(tǒng),包括刻有若干條閃耀角為θ的刻痕透射式閃耀光柵和微透鏡,其特征在于:所述微透鏡為微透鏡陣列。利用這種分光系統(tǒng)能夠得到特定波長(zhǎng)的光強(qiáng)分布圖像,且單色光的能量集中,譜線寬度窄。
微透鏡陣列是由許多形狀相同的微米尺寸小透鏡按一定規(guī)律排列而成的陣列,多數(shù)是按正方形排列。透鏡陣列標(biāo)準(zhǔn)品包含正方形微透鏡和六邊形微透鏡,子單元尺寸32μm-1500μm,焦距在0.8mm-50mm之間,微透鏡陣列一般應(yīng)用在高靈敏度成像、激光勻化、分束、波前傳感、光束聚焦和準(zhǔn)直等領(lǐng)域。
這種分光系統(tǒng)還可以由多種不同傾角的刻痕的透射式閃耀光柵和微透鏡陣列所組成,這樣可得到多幅特定波長(zhǎng)的光強(qiáng)分布圖像。
對(duì)于直讀光譜儀器而言,分光系統(tǒng)的優(yōu)越?jīng)Q定的元素準(zhǔn)確性,能把相近的波長(zhǎng)的光分出,就能相對(duì)減少干擾。這個(gè)結(jié)構(gòu)是目前的直讀光譜儀器的常用結(jié)構(gòu)。
光譜儀化驗(yàn),國(guó)內(nèi)直讀光譜儀
一些外界因素引發(fā)的光強(qiáng)值下降。氬氣不純是一個(gè)重要因素。 不純氬氣中水分等雜質(zhì)會(huì)影響激發(fā)效果,降低光強(qiáng)值,而且水分經(jīng)激發(fā)電離后產(chǎn)生氧,氧會(huì)吸收P、S等短波元素使這些元素的光強(qiáng)值下降,從而分析結(jié)果出現(xiàn)偏差??梢栽跉鍤夤艿乐屑又脷鍤鈨艋b置以提高純凈度。但有些如高含量試樣對(duì)氬氣純度要求太高;即使是高純氬也不能完全激發(fā),這時(shí)需適當(dāng)延長(zhǎng)預(yù)沖氬的時(shí)間或提高激發(fā)光源的頻率,使試樣完全激發(fā)提高光強(qiáng)值,以得到準(zhǔn)確的檢測(cè)結(jié)果。
光譜儀化驗(yàn),國(guó)內(nèi)直讀光譜儀
從定量分析的觀點(diǎn)來考慮,對(duì)光源的要求如下:
1.分析靈敏度高,并能分析痕量、微量元素分析,靈敏度可達(dá)ppm或ppb數(shù)量級(jí)。
2.濃度靈敏度高,即當(dāng)分析元素含量C有小的變化時(shí),相應(yīng)的分析線強(qiáng)度2變化要大,即dI/dc要大。
3.在激發(fā)過程中,光源應(yīng)有良好的穩(wěn)定性和再現(xiàn)性,這是保證分析準(zhǔn)確度的基本要求。
4.基體效應(yīng)小,試料中基體含量變化時(shí),分析元素的結(jié)果不受基體變化的影響。第三元素的影響,組織結(jié)構(gòu)的影響,試樣形狀和質(zhì)量的影響要小。
5.予燃時(shí)間,曝光時(shí)間(積分)要短,可提高分析效率和分析速度。
光譜儀化驗(yàn),國(guó)內(nèi)直讀光譜儀
直讀光譜儀接地要求:1、接地電阻的要求,⑴電阻要小于2Ω,接地電阻的大小可以定義接地電流的大小,接地電阻值越小,接地裝置的接地電壓值也就越小。這就是說接地電阻值的大小,標(biāo)志著設(shè)備接地性能的好與壞。⑵電阻的測(cè)量,接地電阻一般可用電流表—電壓表、電橋法、接地電阻測(cè)量?jī)x等來測(cè)量,目前都采用接地電阻測(cè)量?jī)x來進(jìn)行測(cè)量,此方法即簡(jiǎn)單又方便。常用的接地電阻測(cè)量?jī)x有ZC-8型和ZC-29型兩種。在接地電阻測(cè)試前要先擰開接地線的引下線。
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公司名稱 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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