無(wú)處遁形的水中鉛----氫化物發(fā)生-ICP-AES法測(cè)定飲用水中鉛
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
鉛會(huì)嚴(yán)重影響人體健康，過(guò)量的攝入會(huì)導(dǎo)致慢性中毒，造成人體肝、腎、大腦損傷，兒童鉛中毒更會(huì)導(dǎo)致發(fā)育遲緩，智力低下等。水為生命之源，飲用水中鉛含量超標(biāo)造成的危害更加嚴(yán)重。根據(jù)《GB 5749-2006生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》中規(guī)定，鉛元素的含量不得超過(guò)10 ng/mL。針對(duì)生活飲用水中的鉛元素測(cè)定，本文采用氫化物發(fā)生與電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀聯(lián)用的方法，測(cè)定生活飲用水中鉛含量。本方法檢出限為0.7 ng/mL，測(cè)定下限為2.3 ng/mL，適用于生活飲用水中鉛元素的檢測(cè)。
儀器配置
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
觀測(cè)方式：軸向觀測(cè)
進(jìn)樣系統(tǒng)：氫化物發(fā)生裝置
分光系統(tǒng)：中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，全譜瞬態(tài)直讀
檢測(cè)器：大面積背照式CCD芯片，高紫外檢出效率，寬動(dòng)態(tài)范圍
光源：高效固態(tài)射頻發(fā)生器，小體積高效率
Plasma 2000儀器檢測(cè)條件
觀測(cè)方向 霧化器流量
（L/min） 輔助氣流量
（L/min） 載氣流量
（L/min）
軸向 0.6 0.5 13.5
RF功率
（W） 曝光時(shí)間
（s） 進(jìn)樣時(shí)間
（s） 氫化物發(fā)生器泵速
（rpm）
實(shí)驗(yàn)樣品與檢測(cè)方法
取自不同取樣點(diǎn)的實(shí)際自來(lái)水樣，分別編號(hào)為Y1和Y2。
在一定PH范圍內(nèi)，鉛元素可與硼氫化鉀溶液反應(yīng)生成氣態(tài)的PbH4，通過(guò)載氣將PbH4帶入電感耦合等離子體光譜儀內(nèi)進(jìn)行測(cè)試。
移取20mL自來(lái)水樣品，加入鹽酸，定容于25mL容量瓶中，搖勻待測(cè)。
分析譜線(xiàn)的選擇
選用靈敏度適宜，無(wú)其他元素明顯干擾的鉛220.353分析譜線(xiàn)。
鉛元素的譜線(xiàn)選擇
標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)繪制
鉛標(biāo)準(zhǔn)溶液（國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心，1000μg/mL）配置溶液梯度，氫化物發(fā)生法繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)，線(xiàn)性相關(guān)系數(shù)大于0.999。
標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)濃度（ng/mL）
元素名稱(chēng) S0 S1 S2 S3 S4
鉛元素氫化物發(fā)生標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)
方法檢出限與測(cè)定下限
按樣品空白連續(xù)測(cè)定11次，以3倍的標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法檢出限，10倍的標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法測(cè)定下限。
鉛元素氫化物發(fā)生檢出限（ng/mL）
元素 檢出限 測(cè)定下限
Pb 0.7 2.3
測(cè)定結(jié)果
實(shí)際樣品分析結(jié)果（ng/mL）
樣品名稱(chēng) ICP-AES ICP-MS GB 5749-2006
Y1 （0.70）a 0.65 <10
Y2 （0.80）a 0.75 <10
備注a：括號(hào)內(nèi)為參考值，低于測(cè)定下限2.3 ng/ml。
加標(biāo)回收率
在實(shí)際樣品中加入約3倍于實(shí)際樣品鉛的含量，回收率為108%，滿(mǎn)足定量要求。
加標(biāo)回收率
樣品名稱(chēng) 樣品含量
（ng/mL） 加入量
（ng/mL） 測(cè)量值
（ng/mL） 回收率
（%）
Y1 (0.7) a 2.5 3.4 108
備注a：括號(hào)內(nèi)為參考值
結(jié)論
本方法采用氫化物發(fā)生與plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀聯(lián)用的方法測(cè)定生活飲用水中的鉛元素，對(duì)2個(gè)實(shí)際飲用水樣進(jìn)行檢測(cè)，均未檢出鉛元素超標(biāo)，方法檢出限及測(cè)定下限低于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)要求，加標(biāo)回收率好，適用于生活飲用水中鉛元素的檢測(cè)。

鋼研納克ICP光譜儀測(cè)定污水中砷、鎘、鉻、銅、鎳、鉛、鋅
水是人類(lèi)賴(lài)以生存的自然資源，隨著經(jīng)濟(jì)發(fā)展和城市化進(jìn)程的加快，城市生活用水與工業(yè)用水量的增加，產(chǎn)生的污水會(huì)對(duì)環(huán)境造成嚴(yán)重污染，因此對(duì)污水排放的監(jiān)測(cè)尤為重要。本文采用ICP-OES法對(duì)污水中As，Cd，Cr，Cu，Ni，Pb，Zn進(jìn)行測(cè)定。
使用儀器：鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司 Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
圖1 Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
儀器特點(diǎn)：
觀測(cè)方式：徑向觀測(cè)
光源：高效固態(tài)射頻發(fā)生器，小體積高效率
分光系統(tǒng)：中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，全譜瞬態(tài)直讀
檢測(cè)器：大面積背照式CCD芯片，高紫外檢出效率，寬動(dòng)態(tài)范圍
表1 Plasma 2000工作條件
載氣流量（L/min） 輔助氣流量（L/min） 冷卻氣流量（L/min）
0.6 0.5 13.5
RF功率（W） 曝光時(shí)間（s） 蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速（rpm）
1250 8 20
實(shí)驗(yàn)方法
分取一定量污水樣品，加入5ml硝酸，加熱15min，定容至25ml容量瓶待測(cè)。
分析譜線(xiàn)的選擇
表2 Plasma 2000譜線(xiàn)選擇
元素 As Cd Cr Cu
譜線(xiàn)（nm） 197.262 214.438 267.716 327.396
元素 Ni Pb Zn
譜線(xiàn)（nm） 341.476 220.353 202.548
標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)繪制
As，Cd，Cr，Cu，Ni，Pb，Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液（國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心，1000μg/mL）
配制曲線(xiàn)濃度如表3 ，線(xiàn)性相關(guān)系數(shù)大于0.999。
表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)濃度（μg/mL）
元素名稱(chēng) S0 S1 S2 S3 S4 S5
As 0 0.5 1 5 10 20
Cd 0 0.5 1 5 10 20
Cr 0 0.5 1 5 10 20
Cu 0 0.5 1 5 10 20
Ni 0 0.5 1 5 10 20
Pb 0 0.5 1 5 10 20
Zn 0 0.5 1 5 10 20
方法檢出限
表 4方法檢出限（μg/mL）
元素 As Cd Cr Cu
檢出限 0.0320 0.0018 0.0039 0.0030
元素 Ni Pb Zn
檢出限 0.0039 0.0285 0.0018
測(cè)定結(jié)果及加標(biāo)回收率
在實(shí)際樣品中加入被測(cè)元素，其加標(biāo)回收率為91.7%-106.6%之間。
表 5 樣品分析結(jié)果（μg/mL）
元素 樣品測(cè)定值 加入量 加標(biāo)測(cè)定值 加標(biāo)回收率 GB8978-1996
As 0.487 1 1.460 97.3 <0.5
Cd 0.0532 0.1 0.149 95.8 <0.1
Cr 1.257 2 3.365 105.4 <1.5
Cu 0.795 1 1.712 91.7 <2.0
Ni 0.465 1 1.456 99.1 <1.0
Pb 0.512 1 1.561 104.9 <1.0
Zn 0.199 0.5 0.732 106.6 <5.0
結(jié)論
本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定污水中的As，Cd，Cr，Cu，Ni，Pb，Zn，方法檢出限為0.0018μg/mL-0.0320μg/mL之間，加標(biāo)回收率介于91.7%-106.6%之間，方法可靠，適用于污水中的As，Cd，Cr，Cu，Ni，Pb，Zn等元素的檢測(cè)。

鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀測(cè)定中低合金鋼中12種元素
關(guān)鍵詞：Plasma2000，ICP-OES，中低合金鋼，全譜瞬態(tài)直讀
引言
中低合金鋼是在碳鋼的基礎(chǔ)上加入少量合金元素得到的一類(lèi)結(jié)構(gòu)用鋼。低合金高強(qiáng)度鋼可以用較少的合金元素獲得高的綜合力學(xué)性能，以達(dá)到改善鋼的性能，滿(mǎn)足使用且成本低廉。中低合金鋼中合金元素的含量測(cè)定十分重要。本文采用鋼研納克Plasma2000型電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（ICP-OES） 對(duì)中低合金鋼中的Si，Mn，P，Cr，Ni，Mo，V，Ti，Al、Cu、Co、Y等12種常見(jiàn)元素的含量進(jìn)行了測(cè)定，標(biāo)準(zhǔn)樣品測(cè)試結(jié)果吻合，效果滿(mǎn)意。
儀器特點(diǎn)
Plasma 2000 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司）是一種使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀，具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。儀器特點(diǎn)如下：
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器，超高穩(wěn)定光源；
? 大面積背照式CCD芯片，寬動(dòng)態(tài)范圍；
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，體積小巧；
? 多元素同時(shí)分析，全譜瞬態(tài)直讀。
樣品前處理
參考國(guó)標(biāo)GB/T 20125-2006《低合金鋼 多元素含量的測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》，準(zhǔn)確稱(chēng)取1.0000 g試樣，加入鹽酸、硝酸混合酸分解，如有不溶碳化物，加高氯酸冒煙，以混酸溶解鹽類(lèi)，冷卻狀態(tài)下加入氫氟酸，試液稀釋至一定體積，干過(guò)濾。
樣品溶解圖解
儀器參數(shù)
儀器工作參數(shù) 設(shè)定值 儀器工作參數(shù) 設(shè)定值
射頻功率／W 1350 輔助氣流速／L·min-1 0.5
冷卻氣流速／L·min-1 13.5 蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速/rpm 20
載氣流速／L·min-1 0.5 進(jìn)樣時(shí)間/s 25
標(biāo)準(zhǔn)樣品
選用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行測(cè)試
標(biāo)樣編號(hào) 標(biāo)樣名稱(chēng)
GBW(E)010026a 碳鋼35#
YSBC 11213-93 CrMnSiNiMo
YSB14134-2001 焊條鋼
BH 0640-1 45CrNiWV
YSBC11121-95 15鋼
典型元素譜線(xiàn)
標(biāo)樣 濃度% 計(jì)算濃度% 誤差
空白 0 -0.0016 0.0016
標(biāo)準(zhǔn)1 0.01 0.0085 0.0015
標(biāo)準(zhǔn)2 0.05 0.0492 0.0008
標(biāo)準(zhǔn)3 0.1 0.1024 -0.0024
標(biāo)準(zhǔn)4 0.5 0.5034 -0.0034
標(biāo)準(zhǔn)5 1 0.9981 0.0019
標(biāo)樣 濃度% 計(jì)算濃% 誤差
空白 0 -0.0005 0.0005
標(biāo)準(zhǔn)1 0.0010 0.0006 0.0004
標(biāo)準(zhǔn)2 0.0050 0.0047 0.0003
標(biāo)準(zhǔn)3 0.01 0.0100 0.0000
標(biāo)準(zhǔn)4 0.05 0.0491 0.0009
標(biāo)準(zhǔn)5 0.1 0.1017 -0.0017
標(biāo)準(zhǔn)6 0.5 0.4998 0.0002
標(biāo)樣 濃度% 計(jì)算濃度% 誤差
空白 0 -0.0002 0.0002
標(biāo)準(zhǔn)1 0.0010 0.0009 0.0001
標(biāo)準(zhǔn)2 0.0050 0.0049 0.0001
標(biāo)準(zhǔn)3 0.0100 0.0105 -0.0005
標(biāo)準(zhǔn)4 0.0500 0.0499 0.0001
標(biāo)準(zhǔn)5 0.1000 0.1047 0.0047
標(biāo)準(zhǔn)6 0.5000 0.5036 0.0036
準(zhǔn)確度及穩(wěn)定性
元素 Al Co Cr Cu Mn Mo Ni P Ti V Si
譜線(xiàn) / nm 396.152 228.616 267.716 327.396 257.610，260.569 202.030 231.604 178.280
334.941 309.311,311.071 251.612
15鋼 認(rèn)定值/% ---- ---- 0.026 0.028 0.317 ---- 0.017 0.0078 ---- ---- 0.054
Plasma2000測(cè)定值/% 0.156 0.0063 0.024
0.028
0.315 0.0005 0.0143 0.0069 0.0011 0.0006 0.054
RSD（n=11）/% 2.53 (SD) 0.0001 1.70 1.99 1.83 (SD) 0.0001 1.86 (SD) 0.0009 (SD) 0.00003 (SD) 0.00004 0.86
焊條鋼 認(rèn)定值/% 0.015 ---- 0.009 0.043 1.38 0.038 0.355 0.0035 0.195 ---- 0.069
Plasma2000測(cè)定值/% 0.016
0.0074 0.0081 0.044
1.36 0.037
0.365 0.0029 0.196 0.0003 0.069
RSD（n=11）/% 2.32 (SD) 0.0001 1.79 1.49 1.94 1.40 1.40 (SD) 0.0009 1.60 (SD) 0.00004 1.00
CrMn 認(rèn)定值/% ---- ---- 0.84 0.059 1.15 0.33 1.96 0.018 ---- 0.058 0.96
Plasma2000測(cè)定值/% 0.0235 0.114 0.840 0.057
1.13 0.32
1.98 0.016
0.0095 0.060
0.93
RSD（n=11）/% 1.82 1.73 1.87 1.79 1.51 1.82 0.92 1.41 1.92 1.43 1.87
45Cr 認(rèn)定值/% ---- ---- 1.03 ---- 0.687 ---- 1.515 0.0248 ---- 0.146 0.47
Plasma2000測(cè)定值/% 0.114 0.0096 1.03 0.165 0.664
0.0166 1.510 0.0247 0.0030 0.149
0.467
RSD（n=11）/% 1.01 (SD) 0.0001 0.58 1.26 1.34 1.06 0.35 1.07 (SD) 0.00003 1.20 1.12
碳鋼 認(rèn)定值/% ---- ---- 0.051±0.002 0.068±0.002 0.71±0.007 ---- 0.08±0.002 0.022±0.002 ---- ---- 0.242
Plasma2000測(cè)定值/% 0.0011 0.0096 0.053
0.0795 0.612
0.0130 0.077
0.021
0.0014 0.0031 0.237
RSD（n=11）/% (SD) 0.00001 (SD) 0.0001 1.07 1.43 1.20 2.22 0.99 2.76 (SD) 0.00003 (SD) 0.00004 0.72
方法檢出限
在選定工作條件下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)溶液系列的空白溶液連續(xù)測(cè)定11次，以3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素檢出限，以10倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素的測(cè)定下限。
各元素的譜線(xiàn)和方法檢出限
元素 譜線(xiàn)/nm 方法檢出限/% 測(cè)定下限/%
Al 396.152 0.0002
0.0007
Co 228.616 0.0001
0.0004
Cr 267.716 0.0002
0.0007
Cu 327.396 0.00009
0.0003
Mn 260.569
0.0001
0.0003
Mo 202.030 0.0003
0.0010
Ni 231.604 0.0002
0.0007
P 178.280
0.0006
0.0025
Ti 334.941 0.00003
0.00008
V 309.311
0.00006 0.0002
Si 251.612 0.0004
0.0012
結(jié)論
參考標(biāo)準(zhǔn)GBT 20125-2006，利用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀對(duì)中低合金鋼中Al、Co、Cr、Cu、Mn、Mo、Ni、P、Ti、V、Y、Si等12種元素進(jìn)行測(cè)定，方法檢出限在0.00003%~0.0004%之間，檢測(cè)結(jié)果與標(biāo)樣認(rèn)定值一致。該方法應(yīng)用范圍廣泛，對(duì)屑狀、絲狀等火花光譜無(wú)法檢測(cè)的樣品也能分析檢測(cè)。 Plasma 2000能夠快速、準(zhǔn)確、可靠的測(cè)定中低合金鋼中的Al、Co、Cr、Cu、Mn、Mo、Ni、P、Ti、V、Y、Si等12種元素。
儀器優(yōu)點(diǎn)
1. 優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)
2. 固態(tài)高效射頻發(fā)生器，體積更加小巧
3. 流程自動(dòng)化，狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)
4. 科研級(jí)檢測(cè)器，極高的紫外量子化效率
5. 強(qiáng)大分析譜線(xiàn)
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強(qiáng)大
9. 智能譜圖標(biāo)定
10.智能干擾矯正

鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀測(cè)定球磨鑄鐵中Si、Mn、P、La、Ce、Mg含量
關(guān)鍵詞：Plasma2000，ICP-OES，球磨鑄鐵，全譜瞬態(tài)直讀
引言
球墨鑄鐵是一種高強(qiáng)度鑄鐵材料，其綜合性能接近于鋼，用于鑄造一些受力復(fù)雜，強(qiáng)度、韌性、耐磨性要求較高的零件。除鐵元素外，它的化學(xué)成分通常為:含碳量3.0~4.0%，含硅量1.8~3.2%，含錳、磷、硫總量不超過(guò)3.0%以及適量的稀土、鎂等球化元素。因此球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce 、Mg元素測(cè)定十分重要。本文采用Plasma2000電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（ICP-OES） 對(duì)球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素含量進(jìn)行了測(cè)定，標(biāo)樣和樣品測(cè)試均得到了滿(mǎn)意的結(jié)果。
儀器特點(diǎn)
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司）是一種使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀，具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。儀器特點(diǎn)如下：
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器，超高穩(wěn)定光源；
? 大面積背照式CCD芯片，寬動(dòng)態(tài)范圍；
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，體積小巧；
? 多元素同時(shí)分析，全譜瞬態(tài)直讀。
樣品前處理
參考國(guó)標(biāo)GB/T 24520-2009《鑄鐵和低合金鋼 鑭、鈰和鎂含量的測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》，準(zhǔn)確稱(chēng)取0.5 g（精確至0.0001 g）試樣，加入鹽酸、硝酸混合酸分解，高氯酸冒煙，以混酸溶解鹽類(lèi)，冷卻狀態(tài)下加入氫氟酸，試液稀釋至一定體積，干過(guò)濾。Si稀釋10倍測(cè)定，其他元素直接測(cè)定。
樣品溶解圖解
儀器參數(shù)
儀器工作參數(shù) 設(shè)定值 儀器工作參數(shù) 設(shè)定值
射頻功率／W 1250 輔助氣流速／L·min-1 0.5
冷卻氣流速／L·min-1 13.5 蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速/rpm 20
載氣流速／L·min-1 0.5 進(jìn)樣時(shí)間/s 25
標(biāo)準(zhǔn)樣品
選用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行測(cè)試
標(biāo)樣編號(hào) 標(biāo)樣名稱(chēng)
GBW（E）010188a 稀土鎂球墨鑄鐵
典型元素譜線(xiàn)
標(biāo)樣 濃度mg/L 計(jì)算濃度mg/L 誤差
空白 0 -0.00716 -0.00716
標(biāo)準(zhǔn)1 10 9.99484 -0.00516
標(biāo)準(zhǔn)2 12.5 12.52462 0.02462
標(biāo)準(zhǔn)3 17.5 17.50403 0.00403
標(biāo)樣 濃度mg/L 計(jì)算濃度mg/L 誤差
空白 0 -0.00001 -0.00001
標(biāo)準(zhǔn)1 2.5 2.49955 -0.00045
標(biāo)準(zhǔn)2 5 5.00070 0.00070
標(biāo)準(zhǔn)3 10 9.99976 -0.00024
標(biāo)樣 濃度mg/L 計(jì)算濃度mg/L 誤差
空白 0 -0.00028 -0.00028
標(biāo)準(zhǔn)1 1.5 1.50063 0.00063
標(biāo)準(zhǔn)2 2.5 2.49972 -0.00028
標(biāo)準(zhǔn)3 3.5 3.49993 -0.00007
準(zhǔn)確度及穩(wěn)定性
標(biāo)樣GBW（E）010188a測(cè)試結(jié)果
元素 Plasma2000測(cè)定值/% RSD（n=11）/% 認(rèn)定值/% 標(biāo)樣不確定度/%
Si 2.8868 0.82 2.87 0.04
Mn 0.1310 1.25 0.134 0.008
P 0.0375 1.62 0.039 0.002
∑Re Ce 0.0160 1.06 0.023 0.004
La 0.0051 1.27
Mg 0.0524 1.32 0.051 0.002
實(shí)際樣品測(cè)試
樣品編號(hào) 1# 2#
元素 Plasma2000/% 參考結(jié)果*/% Plasma2000/% 參考結(jié)果*/%
Si 2.35 2.32 2.37 2.42
Mn 0.085 0.086 0.077 0.079
P 0.017 0.018 0.017 0.018
Ce <0.005 <0.005 <0.005 <0.005
La 0.0048 0.0046 0.0031 0.0029
Mg 0.043 0.042 0.045 0.044
*參考結(jié)果為其他實(shí)驗(yàn)室測(cè)定值
方法檢出限
在選定工作條件下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)溶液系列的空白溶液連續(xù)測(cè)定11次，以3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素檢出限，以10倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素的測(cè)定下限。
各元素的譜線(xiàn)和方法檢出限
元素 譜線(xiàn)/nm 方法檢出限/% 測(cè)定下限/%
Si 251.612 0.00165 0.00550
Mn 257.610 0.00001 0.00003
P 213.618 0.00126 0.00421
Ce 446.021 0.00141 0.00470
La 398.852 0.00015 0.00051
Mg 279.553 0.00003 0.00010
結(jié)論
參考標(biāo)準(zhǔn)GBT 24520-2009，利用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀對(duì)球磨鑄鐵中Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素進(jìn)行測(cè)定，方法檢出限在0.00001%~0.00165%之間，檢測(cè)結(jié)果與標(biāo)樣認(rèn)定值一致。該方法應(yīng)用范圍廣泛，對(duì)火花光譜無(wú)法檢測(cè)的非白口化樣品也能分析檢測(cè)。 Plasma 2000能夠快速、準(zhǔn)確、可靠的測(cè)定球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素。
儀器優(yōu)點(diǎn)
1. 優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)
2. 固態(tài)高效射頻發(fā)生器，體積更加小巧
3. 流程自動(dòng)化，狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)
4. 科研級(jí)檢測(cè)器，極高的紫外量子化效