PlasmaMS 300 的ICP部分
由于ICP是一個開放式的等離子體系統(tǒng)，始終處于電離與平衡的過程之中，因此ICP并不 能夠承受大量液體樣品的引入，因此采用霧化器，霧室這樣的進樣系統(tǒng)。 通過蠕動泵使樣品不斷到達霧化器，霧化器把液體樣品噴射成顆粒細微的氣溶膠，霧室去 除大顆粒的氣溶膠，保證顆粒較小的氣溶膠引入ICP中。伴隨著在炬管中心管中的溫度逐 漸升高，樣品發(fā)生了一系列物理變化，終形成離子。 由于樣品氣溶膠始終被氣體所推動，因此整個樣品離解過程是非常迅速的。而在霧化器中 形成的氣溶膠絕大多數(shù)都被形成廢液后排除，真正到達ICP的樣品其實非常有限。 ICP中的離子：氣態(tài)元素原子失去電子形成的物理性離子，與溶液中的離子完全不同 之所以采用ICP源是因為只有足夠高的溫度才能提供能量實現(xiàn)樣品中的化合物離解和氣化 以及電離。
等離子體具有很高的溫度（8000-10000K），在這個溫度下大多數(shù)元素從原子變?yōu)閹щ婋x 子，以離子形態(tài)進入一級真空系統(tǒng)。
氬氣等離子體具有一個典型特點：即使樣品中有許多元素，在通過等離子體時，絕大多數(shù) 元素都會形成單電荷正離子。

PlasmaMS 300的各項參數(shù)都需要進行優(yōu)化，以便獲得穩(wěn)定的數(shù)據(jù)分析結果，這些參數(shù)包括：
? 樣品引入
? ICP炬管
? 接口
? 透鏡
? 四級桿
? 檢測器
一般來說，參數(shù)優(yōu)化的目的都是為了獲得目標同位素的靈敏度。在下面的章節(jié)中我們 會詳細介紹，靈敏度在整個優(yōu)化過程中扮演了主要的角色，但是除了靈敏度以外，其他 因子也需要引起您的注意，必須綜合考慮，后才能得到恒定又可靠的PLASMAMS 300結果數(shù)據(jù)。

ICP-MS理想的樣品制備應該達到以下幾條標準：
? 將固體和液體樣品轉(zhuǎn)換為澄清溶液
? 完全消解了所有的有機物質(zhì)
? 保留所有目標檢測元素，并且元素濃度在儀器的檢測范圍內(nèi)
? 未引入新的干擾離子
? 將樣品的粘度和固體物含量調(diào)節(jié)到適合分析的范圍
? 確保所有的樣品容器都進行過酸液浸泡的前處理，以保證的檢出限

采用PlasmaMS 300進行分析時樣品注意事項：
很多樣品的初始狀態(tài)并不適合直接上機測試，例如:
固體樣品 渾濁樣品(Heterogeneous)
待測元素含量過高 (PLASMAMS 300的動態(tài)線性范圍大約是 100ppm)
高基體 (我們建議PLASMAMS 300上機樣品TDS <0.2%w/v，TDS為總固態(tài)可溶物含量
Total Dissolved Solids)
由于以上原因，我們需要先將樣品轉(zhuǎn)換成液體形態(tài)。一般來說，HNO3是比較理想的選擇， 但有時候由于樣品基體的原因，無法使用HNO3---例如有機樣品和鋼鐵樣品等。如果可以 使用HNO3，2% HNO3是比較適合PLASMAMS 300分析上機的。因為的HNO3加入一般不會增加 多原子干擾，同時，高純度HNO3比較容易買到。
其他類型的酸試劑都會帶來額外的干擾。例如：添加HCl來溶解樣品，會產(chǎn)生ClO & ArCl， 因此會干擾V & As的測定。磷酸和硫酸的添加會干擾Ti & Zn的測定。
我們建議 PLASMAMS 300 的樣品溶解并稀釋到以下范圍：
< 0.2% w/v TDS(Total Dissolved Solids)