正性光刻膠公司 雙層光刻膠公司 化學(xué)光刻膠廠 Futurrex
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縱橫比 4.5
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
光刻膠型號(hào) NR5-8000
膜厚 54μm
掩模尺寸 12μm
曝光能量 1100 mJ/cm22
聚焦補(bǔ)償 -15μm
耐溫 150度
產(chǎn)品編號(hào) 8722661
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng):光刻膠




光刻膠相關(guān)信息

賽米萊德——專業(yè)光刻膠供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍非常廣,上游為基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細(xì)化學(xué)品行業(yè),中游為光刻膠制備,下游為電子加工廠商、各電子器產(chǎn)品應(yīng)用終端。由于上游產(chǎn)品直接影響下游企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量,下業(yè)企業(yè)對(duì)公司產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視,常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式,進(jìn)入壁壘較高。

在下游半導(dǎo)體、LCD、PCB等行業(yè)需求持續(xù)擴(kuò)大的拉動(dòng)下,光刻膠市場(chǎng)將持續(xù)擴(kuò)大。2018年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為85億美元,2014-2018年復(fù)合增速約5%。據(jù)IHS,未來光刻膠復(fù)合增速有望維持5%。按照下游應(yīng)用來看,目前半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,LCD 光刻膠占比26.6%,PCB 光刻膠占比24.5%,其他類光刻膠占比24.8%。



如何選購(gòu)光刻膠?

光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是的,但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對(duì)光刻膠進(jìn)行合理的選擇。

劃分光刻膠的一個(gè)基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,正性光刻膠曝過光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負(fù)性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙?,而曝光的區(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是的,因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及,但MEMS系統(tǒng)中,由于加工要求相對(duì)較低,光刻膠需求量大,負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場(chǎng)。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。


正性光刻膠的結(jié)構(gòu)

光學(xué)光刻膠通常包含以下三種成分:(1)聚合物材料(也稱為樹脂)。聚合物材料在光的輻照下不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),其主要作用是保證光刻膠薄膜的附著性和抗腐蝕性,同時(shí)也決定著光刻膠薄膜的其他一些特性(如光刻膠的膜厚要求、彈性要求和熱穩(wěn)定性要求等)。(2)感光材料。感光材料一般為復(fù)合性物質(zhì)(簡(jiǎn)稱PAC或感光劑)。感光劑在受光輻照之后會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。正膠的感光劑在未曝光區(qū)域起抑制溶解的作用,可以減慢光刻膠在顯影液中的溶解速度。以正性膠為例,使用g射線和i射線光刻中的正性膠是由重氮醌(簡(jiǎn)稱為DQ)感光劑和酚樹脂構(gòu)成。(3)溶劑(如丙二醇-,PGME)。溶劑的作用是使光刻膠在涂覆到硅片表面之前保持為液態(tài)


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