離子清洗機
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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

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供電電源 AC220V（AC110V可選)
工作電流 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率 150W
射頻頻率 13.56MHz
真空度 ≤50Pa
腔體材質(zhì) 高純石英
腔體容積 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)
觀察窗內(nèi)徑 Φ50
氣體流量 0—50ml/min（其他量程可選）
過程控制 過程手動控制
商品介紹

plasma離子清洗機射頻電源，

等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。



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plasma離子清洗機射頻電源

供電電源

AC220V（AC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

＜0.2MHz

特性阻抗

50歐姆，手動匹配

耦合方式

電容耦合

真空度

≤50Pa

腔體材質(zhì)

高純石英

腔體容積

2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)

觀察窗內(nèi)徑

Φ50

氣體流量

0—50ml/min（其他量程可選）

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關(guān)

開蓋方式

鉸鏈側(cè)開式法蘭

外形尺寸

450x450x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風(fēng)冷

標(biāo)配

KF16真空管1米，kf16卡箍2個，不銹鋼網(wǎng)匣1個，電源線一根，說明書一本。

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公司名稱 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
手機 㜉㜈㜉㜆㜌㜉㜆㜅㜃㜄㜉
地址 河南省鄭州市