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鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
價格
訂貨量(臺)
￥3680.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
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發(fā)貨地 河南省鄭州市
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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
品牌 鄭科探
功率 ≤1000W
重量 25kg
溫度 樣品臺溫度80°左右
規(guī)格 φ160mm x 170mm
類型 磁控濺射
用途 金屬鍍膜
材質(zhì) 不銹鋼
電壓 ≤1000V
型號 KT-Z1650PVD
鍍種 金屬
商品介紹
直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。
所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
聯(lián)系方式
公司名稱 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
手機 䝒䝏䝒䝐䝘䝒䝐䝖䝔䝑䝒
地址 河南省鄭州市
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