?SD-650MH高真空鍍膜儀是一款磁控濺射儀。擁有高真空度，可鍍多種金屬靶材、合金靶材、半導(dǎo)體靶材等。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1、高真空磁控濺射儀要求穩(wěn)定，安全可靠，操作簡(jiǎn)單便捷。適用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

2、 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。

3、高真空磁控濺射儀長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm） 可放于桌面，小巧不占空間。抽真空速度快，10分鐘可進(jìn)入工作狀態(tài)。真空腔體采用直徑260mm×高270mm的金屬真空腔體，真空腔體上有多個(gè)備用標(biāo)準(zhǔn)接口，方便老師想進(jìn)行其他實(shí)驗(yàn)研究接入設(shè)備，后期可直接配備射頻濺射系統(tǒng)，方便老師后續(xù)想鍍半導(dǎo)體等材料。

4、前級(jí)機(jī)械泵抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 ，后級(jí)抗沖擊渦輪分子泵采用抽速為300L/s。真空測(cè)量采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空，極限真空度: 5×10^-5Pa。     

6、直流恒流電源輸入電壓為220V，輸出電壓為0-600v，輸出電流為0-1.6A ，沉積速率為0-200nm/min。電控帶鎖系統(tǒng)，防止無關(guān)人士誤操作。濺射定時(shí)保護(hù)裝置，防止濺射時(shí)間過長引起的樣品損壞。濺射磁控頭直徑為50mm。配備一塊厚度不小于0.2mm厚的金靶，方便產(chǎn)品到貨直接使用?；w溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

7、 樣品臺(tái)采用旋轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)。直徑尺寸可選，最大不能超過φ150mm。

8 、采用自循環(huán)冷卻水機(jī)冷卻靶頭，保證靶頭壽命。

原理：

    濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材表面進(jìn)行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。濺射時(shí)產(chǎn)生的快電子在正交的電磁場(chǎng)中作近似擺線運(yùn)動(dòng)，增加了電子行程，提高了氣體的離化率，同時(shí)高能量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

指標(biāo)

品牌                        北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司                                                     

型號(hào)                        SD-650MH                                                                     

儀器主機(jī)尺寸:               長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm）                             

工作腔室尺寸：              金屬腔體：直徑260mm×高270mm（外尺寸 ）                                      

                                      直徑210mm×高270mm（內(nèi)尺寸）                                       

靶材尺寸：                  直徑50mm×厚3mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）                                

靶材料：                    標(biāo)配一塊直徑50mm×0.3mm的金靶 （可濺射弱磁性金屬膜）                        

控制方式                    觸摸屏控制                                                                   

靶槍冷卻方式：              水冷                                                                         

真空系統(tǒng)：                  抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s                                              

前級(jí)機(jī)械泵：                抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器                                      

真空測(cè)量：                  采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空                                                       

極限真空度:                 5×10^-5Pa（10分鐘可到5×10^-4Pa）                                             

電源：直流恒流電源：        輸入電壓：220V                                                               

                            輸出電壓：0-600v可調(diào)                                                         

                            輸出電流（沉積電流）：0-1.6A可調(diào)                                             

載樣臺(tái)：                    旋轉(zhuǎn)臺(tái)（直徑尺寸用戶可選，最大不能超過φ150mm  ）                            

工作氣體：                  Ar等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）                                           

氣路：                      濺射真空度手動(dòng)調(diào)整                                                           

沉積速率：                  0-200nm                                                                      

水冷：                      自循環(huán)冷卻水機(jī)                                                               

電源電壓：                  220V 50Hz                                                                    

啟動(dòng)功率                    3KW                                                                          

保修                        貳年                                                                         

用途特點(diǎn)：

    高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬等新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。