?產(chǎn)品特點：

1、高真空磁控濺射儀要求穩(wěn)定，安全可靠，操作簡單便捷。適用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

2、 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、旋轉(zhuǎn)樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

3、高真空磁控濺射儀長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm） 可放于桌面，小巧不占空間。抽真空速度快，10分鐘可進入工作狀態(tài)。真空腔體采用直徑260mm×高270mm的金屬真空腔體，真空腔體上有多個備用標準接口，方便老師想進行其他實驗研究接入設備，后期可直接配備射頻濺射系統(tǒng)，方便老師后續(xù)想鍍半導體等材料。

4、前級機械泵抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 ，后級抗沖擊渦輪分子泵采用抽速為300L/s。真空測量采用復合真空計監(jiān)測真空，極限真空度: 5×10^-5Pa。     

5、直流恒流電源輸入電壓為220V，輸出電壓為0-600v，輸出電流為0-1.6A ，沉積速率為0-200nm/min。電控帶鎖系統(tǒng)，防止無關人士誤操作。濺射定時保護裝置，防止濺射時間過長引起的樣品損壞。濺射磁控頭直徑為50mm。配備一塊厚度不小于3mm厚的銅靶，方便產(chǎn)品到貨直接使用?；w溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

6、 樣品臺采用旋轉(zhuǎn)式樣品臺。直徑尺寸可選，最大不能超過φ150mm。

7、采用自循環(huán)冷卻水機冷卻靶頭，保證靶頭壽命。

原理：

    濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程，提高了氣體的離化率，同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

指標

品牌                              北京博遠微納科技有限公司                                                   

型號                              SD-650MH                                                                 

儀器主機尺寸:               長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm）  

工作腔室尺寸：              金屬腔體：直徑260mm×高270mm（外尺寸 ）                 

                                         直徑210mm×高270mm（內(nèi)尺寸）                             

靶材尺寸：                    直徑50mm×厚3mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）       

靶材料：                       標配一塊直徑50mm×3mm的銅靶                                 

靶槍冷卻方式：              水冷                                                                            

真空系統(tǒng)：                    抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s                                 

前級機械泵：                 抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器                       

真空測量：                    采用復合真空計監(jiān)測真空                                                

極限真空度:                  5×10^-5Pa（10分鐘可到5×10^-4Pa）                               

電源：              直流恒流電源：        輸入電壓：220V                                     

                                                     輸出電壓：0-600v可調(diào)                               

                                                     輸出電流（沉積電流）：0-1.6A可調(diào)     

載樣臺：                         旋轉(zhuǎn)臺（直徑尺寸用戶可選，最大不能超過φ150mm  ）   

工作氣體：                      Ar等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）                        

氣路：                            濺射真空度手動調(diào)整                                                  

沉積速率：                      0-200nm                                                                    

水冷：                            自循環(huán)冷卻水機                                                          

可鍍材料：            鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜

介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、        

聚四氟乙烯薄膜等                                  

電源電壓：                      220V 50Hz                                                               

啟動功率                         3KW                                                                         

保修                               貳年