上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 140
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上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 140

上海伯東美國(guó)-KRi-射頻離子源-RFICP

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聯(lián)系人 葉南晶

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品牌 KRi
產(chǎn)地 美國(guó)
型號(hào) RFICP140
最大離子束流 > 500mA
離子束動(dòng)能 100-1200eV
氣體 Ar, O2, N2,其他
流量 5-40sccm
離子束柵極 14cm Φ
離子束流形狀 平行,聚焦,散射
中和器 LFN 2000
商品介紹
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上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)完美的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 最佳的離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 就標(biāo)準(zhǔn)的型號(hào)而言, 可以在離子能量為 100~1200 eV 范圍內(nèi)獲得很高的離子密度. 可以輸出最大 600 mA 離子流.

射頻離子源 RFICP140

KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術(shù)參數(shù):

陽(yáng)極

電感耦合等離子體
1kW & 1.8 MHz
射頻自動(dòng)匹配

最大陽(yáng)極功率

1kW

最大離子束流

> 500mA

電壓范圍

100-1200V

離子束動(dòng)能

100-1200eV

氣體

Ar, O2, N2,其他

流量

5-40sccm

壓力

< 0.5mTorr

離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)

OptiBeamTM

離子束柵極

14cm Φ

柵極材質(zhì)

鉬, 石墨

離子束流形狀

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

25.1 cm

直徑

24.6 cm

鎖緊安裝法蘭

12”CF


KRI 射頻離子源 RFICP 140 應(yīng)用領(lǐng)域：
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 葉小姐                                  臺(tái)灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 107             T: +886-3-567-9508 ext 161
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聯(lián)系賣家 葉南晶 （QQ：2821409400）
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地址 上海市浦東新區(qū)
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