日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

主要特點(diǎn)：
1. 操作方便且有記憶功能，LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案；
2. 通過(guò)磁場(chǎng)控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過(guò)選配測(cè)量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。
 
應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。