卷繞鍍膜設(shè)備詳情介紹

一、真空室

1、真空室體內(nèi)徑Φ1000，內(nèi)高H800，主體材料為SUS304不銹鋼焊接，頂?shù)装?/p>

δ25mm，內(nèi)圍板δ10mm，水套板δ6mm，真空室采用水套冷卻；

2、前開(kāi)大切門(mén)，右手開(kāi)門(mén)，前門(mén)置矩形觀察窗170mm×82mm，帶遮擋板；

3、內(nèi)部轉(zhuǎn)架兩邊安裝加熱器。安裝于真空室內(nèi)中間及四周；

4、真空室焊接水套冷卻，底進(jìn)頂出，真空室冷卻采用直冷式水路循環(huán)；

5、采用下轉(zhuǎn)架，底部引入傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與偏壓輸入端子；

7、于頂板后方置真空計(jì)預(yù)留口KF16×2個(gè)，用于安裝真空規(guī)管；

8、于真空室頂板上安裝熱電偶，于高閥上方安裝充氣閥；。

二、抽氣機(jī)組

1、粗抽泵 2X-70旋片泵，2臺(tái)

2、助力泵 RTO.600s羅茨泵，1臺(tái)

（羅茨泵出氣口選用底部法蘭口與粗抽泵連接）

3、分子泵 JTFB-3600，2臺(tái)

4、維持泵 2X-70旋片泵，1臺(tái)

5、粗抽管道與維持管道采用旁通閥連接

三、蒸發(fā)源配置

1、Φ100定向圓柱電弧靶二組（4套/組+4套/組，共8套）

2、氣動(dòng)引弧機(jī)構(gòu)，輔助陽(yáng)極自動(dòng)補(bǔ)償電壓回路、自動(dòng)保護(hù)過(guò)電流系統(tǒng)

3、電弧靶靶材面至工件面初始距離250mm，標(biāo)配鈦穩(wěn)弧≤60A。

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