隨著光源、數(shù)字傳感器和鍍膜機技術的不斷發(fā)展，光學濾光片也自然而然地隨之發(fā)展并不斷進步。光學濾光片對于自動化、能源、醫(yī)療成像、安保和多元件光學系統(tǒng)中需求最嚴苛的一些應用非常關鍵。

        這些發(fā)展需要開發(fā)新基底（例如柔性薄膜聚合物，以及包括硅與鍺在內的紅外級材料），或采用產生高透射率的新化學品與化合物，以及在紫外與紅外光譜內具有高截止率的濾光片。鍍膜機技術的進步帶來了精度更高的濾光片，這些濾光片能產生<1nm的帶寬，而公差<1%，這真正將頂級分光光度計的功能發(fā)揮到了極致。隨著每項技術的進步，公差與規(guī)格已進一步獲得優(yōu)化，從而產生表面質量、表面平整度、平行度及傳輸波前更好的精密基底。

       在幾乎每項消費應用和科學應用中，新材料、亞納米規(guī)格、深紫外到遠紅外的光譜范圍以及經過改善的各種公差將不斷推動光學和光電子學的發(fā)展。