設(shè)備參數(shù)

型號：HJH-2006I            HJH-2006II

外形尺寸：420(L) x620(W) x1680(H)mm      600(L) x680(W) x 1680(H)mm

治具規(guī)格：8 寸或以下（采用標(biāo)準(zhǔn)或定制化陶瓷吸盤）    12 寸或以下（采用標(biāo)準(zhǔn)或定制化陶瓷吸盤）

清洗精度：清洗 0.5 卩m 及以上的 Particle 顆粒

清洗方式：二流體清洗+毛刷（可選）

干燥方式：高速離心脫水

標(biāo)準(zhǔn)固定方式：微孔陶瓷吸盤（可根據(jù)產(chǎn)品定制）

純水連接口徑：012mm 外徑軟管或 PT1/2”內(nèi)螺紋

純水供應(yīng)：壓力〉0.3Mpa；流量 >10L/Min；電阻率 >17MQ

純水消耗量：0-8L/Min,正常工作耗水量v120L/h

排水出口徑：PT1〃內(nèi)螺紋

氣源入口徑：CM 0mm 外徑軟管或 PT1/2〃內(nèi)螺紋

氣源供應(yīng)：0.4-0.7Mpa；過濾精度：0.01 um；含油量: 無油；含水量：壓力露點-40°C

氣體消耗量： 10-40L/Min

排風(fēng)口口徑：4〃（直徑 115）x2 （抽風(fēng)風(fēng)速大于 3M/Sec ）

排風(fēng)量：400-700m3/H

電源供應(yīng)： AC380V； 50Hz

總功率：2.2Kw

耗電量：清洗時 2.2w;待機(jī)時：1Kw

傳動馬力： 3HP

離心轉(zhuǎn)速：可設(shè) 80-1800R/Min

環(huán)境過濾方式：過濾精度 0.5 卩 m ;過濾效率 99.99%

空氣過濾方式：0.01 pmx1 (精)

清洗壓力：5-10Kgf/cm2

二流體霧徑：小于 30 卩 m

機(jī)器凈重：約 140KG 約 160KG

 機(jī)器簡介

專用于清洗切割后之晶片（Wafer）或玻璃片表面微塵

高速離心脫水，工件表面無水痕殘留

清洗流程：二流體清洗（可分段設(shè)置）-離心干燥

采用二流體清洗裝置，能有效的提高清洗效果

配備除靜電離子風(fēng)系統(tǒng)

選配毛刷清洗功能

配備空氣過濾系統(tǒng)，使用壓縮空氣更加潔凈

整體不銹鋼鏡面機(jī)身堅固耐用，耐酸性、堿性等清洗液