小型真空腔體加工 科創(chuàng)真空 半導(dǎo)體真空腔體加工公司
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北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司

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質(zhì)保期限 12個(gè)月
材質(zhì) 304,316L
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品牌 科創(chuàng)真空
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
產(chǎn)品編號(hào) 15083093
商品介紹
北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司主營(yíng):氦檢漏設(shè)備,氦質(zhì)譜檢漏儀,LNG抽真空設(shè)備




半導(dǎo)體真空腔體制造技術(shù) 

真空腔體在薄膜涂層、微電子、光學(xué)器件和材料制造中,是一種能適應(yīng)高真空環(huán)境的特殊容器。真空腔體通常包括一系列部品——如鐘形罩、基板、傳動(dòng)軸以及輔助井——這些構(gòu)成一個(gè)完整的真空腔體。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制,即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專(zhuān)門(mén)的設(shè)計(jì)和制作。某些常見(jiàn)的真空腔體已經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)計(jì),如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境,可用于焊接,或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。

真空設(shè)備包含很多組件,如真空腔體,真空密封傳導(dǎo)件,視口設(shè)置,真空傳感器,真空顯示表,沉積系統(tǒng),蒸發(fā)源和蒸發(fā)材料,濺鍍靶材,等離子刻蝕設(shè)備,離子注入設(shè)備,真空爐,法蘭,閥門(mén)和管件等。真空設(shè)備常用于脫氣,焊接,制備薄膜涂層,生產(chǎn)半導(dǎo)體/晶圓、光學(xué)器件以及特殊材料等。




真空腔體制造技術(shù)

提供專(zhuān)用設(shè)備腔的定制服務(wù),腔體的外形和開(kāi)口可以根據(jù)用戶(hù)要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。

表面分析腔有通用腔體,用戶(hù)也可以在通用腔體的基礎(chǔ)上進(jìn)行自定義設(shè)計(jì)。

手套箱和焊接箱專(zhuān)用于熔煉或焊接鈦、鋅等對(duì)易在大氣中氧化的材料。

真空密封頸是基板和鐘形罩之間的過(guò)渡組件,它可以提供額外的高度和更多的自由端口。

裝載鎖定室是建在主腔體上的小腔體,可在不破壞主腔體真空度的條件下,將樣本、晶片或其他組件從外部大氣環(huán)境移動(dòng)到內(nèi)部高真空環(huán)境中。

表面分析腔有通用腔體,用戶(hù)也可以在通用腔體的基礎(chǔ)上進(jìn)行自定義設(shè)計(jì)。

真空腔體可以按照真空度進(jìn)行分類(lèi),包括粗或低真空度(< 760, > 1 torr),中真空度(< 1, >10-3 torr),高真空度(< 10-3, >10-8 torr),超高真空度(< 10-8 torr),以及非真空的高壓力 (> 760 torr)。真空腔的寬度和外徑等常規(guī)尺寸是非常重要的參數(shù)。標(biāo)準(zhǔn)鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸,14英寸,18英寸和24英寸。

真空腔體或者真空組件的可選項(xiàng)包括法蘭、裝配形式、表面拋光或電拋光、開(kāi)口或傳導(dǎo)口,加熱器和冷卻方式等。

Ferrotec在真空中制造中的解決方案

使用磁流體密封件作為在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中真空解決方案。磁流體密封件可以隔絕大氣和污染物。

制備的石英用來(lái)制造視口及配件等組件,石英在許多其他加工工藝中也有使用。

真空鍍膜可選Ferrotec的PVD電子束蒸發(fā)系統(tǒng)。

如需了解更多真空環(huán)境下的制造信息,請(qǐng)參考真空工業(yè)界的資料。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制,即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專(zhuān)門(mén)的設(shè)計(jì)和制作。某些常見(jiàn)的真空腔體已經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)計(jì),如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境,可用于焊接,或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。





真空腔體

真空閥門(mén)是在真空管道系統(tǒng)中使用的真空系統(tǒng)組件或真空閥設(shè)備,可重定向氣流,調(diào)整氣流大小并切斷或連接管道。閥門(mén)可以在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行手動(dòng)和遠(yuǎn)程控制,也可以通過(guò)電動(dòng),電磁驅(qū)動(dòng)(電磁閥)進(jìn)動(dòng)和液壓控制。真空閥門(mén)是介質(zhì)循環(huán)或壓力系統(tǒng)中用于調(diào)節(jié)介質(zhì)流量或壓力的設(shè)備。其功能包括斷開(kāi)或連接介質(zhì),控制流量,更改流量,更改介質(zhì)流向,防止介質(zhì)返回,控制壓力或釋放壓力。真空閥門(mén)

真空閥門(mén)具有以下特征:

壓力低于大氣壓,閥瓣壓降不能超過(guò)1 kgf/cm2、介質(zhì)的工作溫度取決于設(shè)備的使用過(guò)程。通常,溫度不超過(guò)-70?+ 150°C的范圍。閥門(mén)(例如真空球閥)的基本要求是確保高度的連接密封以及緊湊的結(jié)構(gòu)和墊片材料。

根據(jù)壓力真空閥可分為4組:

1.低真空閥:中壓p = 760?1mmHg;

2.中壓真空閥:p = 1×10-3mmHg。

3.高真空閥:p = 1×10-4?1×10-7mmHg;

4.超高真空閥:p≤1×10-8mmHg。

真空閥門(mén)中真空波紋管截止閥是一種廣泛使用的閉路閥,直徑小于250毫米,閥桿線(xiàn)性運(yùn)動(dòng)。真空閘閥的限制更大,但這主要用于大直徑的真空閘閥。有高真空蝶閥等。真空閥的關(guān)閉部分用橡膠密封圈或金屬密封圈密封。波紋管真空截止閥的波紋管由不銹鋼,黃銅,塑料和其他材料制成。小直徑真空截止閥的關(guān)閉部分可用隔膜密封。高真空球閥可用于低和中真空。




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