基本信息：

型號： 7302002

品牌：福斯曼

分子式：TaSi2

產品英文名稱：Tantalum disilicide powder (TaSi2)

規(guī)格：5-10μm

純度：99%

CAS編號：12039-79-1

廠家：福斯曼

別名：二硅化鉭

顏色/外觀：灰色的粉體

主要用途：用作合金原料、陶瓷材料等

是否危險化學品：否

包裝規(guī)格：可定制

 

材料詳情：

硅化鉭是一種無機硅化合物，分子式：TaSi2。

分子量：237.12

密度 9.14g/cm3，

熔點 2200℃。

顯微硬度 1407（kg·mm^-2）

比熱容（J/(g·℃)）：0.33

化學性質：粒度小，化學穩(wěn)定性較好。不溶于水。常溫常壓下穩(wěn)定，抗氧化性強。

 

硅化鉭主要用作合金原料、陶瓷材料、導電材料等

 

 

技術優(yōu)勢/賣點

福斯曼生產各種不同規(guī)格硅化鉭產品，目前可提供的硅化鉭粉產品有各個微米級各種不同粒徑的產品。

如0.5-2μm等。并且常年備有現(xiàn)貨。

包裝規(guī)格可根據(jù)用戶要求定制。

 

主要用途：

1、硅化物中硅含量越低熔點越高，但其抗氧化能力下降。通常選用熔點低，抗氧化能力好的二硅化物制造發(fā)熱體，即電熱元件。硅化物熔點要在1700℃以上才能作為發(fā)熱材料，TaSi2滿足這一要求。

2、高溫抗氧化涂層，二元硅化物具有良好的抗氧化能力及自愈合特性作為高溫抗氧化涂層具有良好的應用前景。硅化物涂層的使用壽命與涂層中元素的互擴散能力和涂層缺陷有關。通過合金化可對涂層硅化物進行改性以得到更好的抗氧化能力。對于抗氧化能力相比其他硅化物較差的TaSi2也可以靠添加其他合金元素（例如Cr，Al等）來提高其抗氧化能力。

據(jù)文獻所述制備一種碳/碳復合材料基硅化鉭/碳化硅涂層，組分有硅化鉭、碳化硅、硅和少量的過渡金屬碳化物，其制備時利用二次包埋法在經打磨拋光后的碳/碳復合材料表面直接包埋沉積碳化硅涂層，再用包埋法在已沉積了碳化硅涂層的碳/碳復合材料表面沉積制備硅化鉭外涂層。該發(fā)明可有效利用硅化鉭的高溫抗氧化性能，提高碳/碳復合材料的使用溫度，填補國內外在碳/碳復合材料基硅化鉭涂層研究方面的空白，并為以后碳/碳復合材料在該領域更高溫度長時間的使用打下基礎。

3、制備集成電路，難熔硅化物因為電阻率低和穩(wěn)定性好的特點，在集成電路方面也受到了廣泛關注。TiSi2、TaSi2、MoSi2、WSi2等硅化物是重要的集成電路材料。

4、制備復合陶瓷材料，文獻所述氮化硅-硅化鉭復合陶瓷材料由以下按照重量份的原料組成：氮化硅粉92-98份、硅化鉭粉12-15份、釹粉3-6份、氧化銠粉2-5份。該發(fā)明制備的氮化硅-硅化鉭復合陶瓷材料，氣孔率低，該陶瓷材料制品在長時間工作過程中依然能夠保持良好的力學性能，使用壽命長，另外，該發(fā)明制備的氮化硅-硅化鉭復合陶瓷材料斷裂韌性高，有利于滿足市場對氮化硅陶瓷材料日益提高的性能要求。

 

總之，該產品——硅化鉭可應用于涂層、合金、電子電路、能源等廣泛領域。

規(guī)格參數(shù)

產品編號	規(guī)格
7302001	- 200 mesh  99 %
7302002	5-10 μm (FSSS) 99 %
7302003	2 μm 99 %
7302005	0.5 μm 99 %