北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司主營(yíng)：氦檢漏設(shè)備,氦質(zhì)譜檢漏儀,LNG抽真空設(shè)備

氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇

氦質(zhì)譜檢漏儀廠家的氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇一般應(yīng)從以下幾方面考慮：

(1)無(wú)害，不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害;

(2)質(zhì)量輕，惰性氣體，穿透能力強(qiáng)，能穿透微小細(xì)縫;

(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)引起化學(xué)反應(yīng)和易1燃易1爆;

(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體，滿足檢漏靈敏度方面的要求，減少本底干擾檢測(cè)的準(zhǔn)確性。

氫和氦都是比較理想的示蹤氣體，空氣中的含量少，質(zhì)量輕，運(yùn)動(dòng)速度快，分子直徑小，同等條件下，直線運(yùn)動(dòng)距離長(zhǎng)。在實(shí)際使用中，也相對(duì)比較容易獲取，可以大量使用。由于He具有無(wú)色、無(wú)臭、無(wú)活性、不可燃的特性，因此一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體，但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的，考慮到它的化學(xué)性質(zhì)及危險(xiǎn)性，在應(yīng)用中較少使用，所以實(shí)際大部分檢漏使用的都是氦氣。

今天科創(chuàng)真空的小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢！

氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時(shí)指標(biāo)

北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：科創(chuàng)真空）是從事真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)、制造及真空技術(shù)服務(wù)的化公司。公司致力于真空氦檢漏設(shè)備、非標(biāo)真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)與制造。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示的范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動(dòng)時(shí)間：≤5min

4. 響應(yīng)時(shí)間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環(huán)境：5-35℃

8. 相對(duì)濕度：≤80%

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

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氦質(zhì)譜檢漏儀的基本原理及主要組成部分

氦質(zhì)譜檢漏儀的性能、特性好壞取決于質(zhì)譜分析室。質(zhì)譜分析室的工作原理是對(duì)離子源氣體進(jìn)行電離，電離出來(lái)的正離子經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速聚焦通過(guò)縫隙進(jìn)入均勻磁場(chǎng)，離子束在磁場(chǎng)力的作用下，旋轉(zhuǎn)180o或90o按一定軌跡到達(dá)收集極，此種形式稱之為磁性偏轉(zhuǎn)分析形式。然后，經(jīng)小電流放大器、微處理器，控制器等線路處理直至液晶屏顯示出讀數(shù)的大小1。

三．氦質(zhì)譜檢漏儀在壓力容器中的常用方法

在壓力容器中，使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常用的方法大體可分為三種，即噴氦法（負(fù)壓法），吸槍法（正壓法），氦罩法。就幾種方法的靈敏度比較而言，噴氦法的靈敏度高些。但是當(dāng)檢漏儀安裝在大型的、比較復(fù)雜的壓力容器裝置上時(shí)，也不敢確切地說(shuō)噴氦法的靈敏度就是高。